Posted in | Nanobusiness

Tegal Rinvia il Termine sulla Domanda per il suo Portafoglio della Tecnologia del Deposito di Nanolayer

Published on October 3, 2011 at 3:51 AM

Da Cameron Chai

Tegal basato gli STATI UNITI ha annunciato che ha rinviato il termine per l'offerta per il suo portafoglio di proprietà intellettuale basato della tecnologia del deposito del nanolayer (NLD). Il termine, che era di espirare il 30 settembre 2011 ora è stato rinviato fino alle 5 del pomeriggio, Il 15 ottobre 2011.

La società decisiva sull'estensione come produttori di macchinari il vari semiconduttore e di IC avevano indicato un interesse nel suo portafoglio. Il portafoglio di Tegal comprende complessivamente 35 globali ed i brevetti locali nei campi del deposito atomico plasma-migliorato del livello (ALD), di deposizione chimica in fase di vapore pulsato (CVD) e di NLD.

NLD è una tecnologia che integra il CVD, che è non conforme e dà l'alta capacità di lavorazione e ALD, che è altamente conforme e dà la capacità di lavorazione bassa. Questa tecnologia aiuta i produttori di macchinari di IC ed a semiconduttore a prolungare la durata di hardware basata sui trattamenti di CVD senza avere la necessità di spostarsi ai trattamenti di ALD che sono limitati dai precursori.

Il knowhow e la conoscenza tecnici di Tegal piombo all'invenzione di molte unità quali il LED, la memoria di avanzamento ed i microprocessori. La società è egualmente responsabile dello sviluppo delle unità filtrante e di percezione che ora sono usate dalla maggior parte dei Smart Phone. La società egualmente ha investito nella Potenza di Seguito sviluppare i vari progetti solari della centrale elettrica ed i progetti di energia rinnovabile intorno al mondo.

Sorgente: http://www.Tegal.com

Last Update: 4. June 2015 06:02

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit