Site Sponsors
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
Posted in | Nanobusiness

Tegal Utvider Frist på budet for sine Nanolayer Nedfall Technology Portfolio

Published on October 3, 2011 at 3:51 AM

Av Cameron Chai

USA-basert Tegal har annonsert at de har forlenget fristen for budgivningen for sin nanolayer deponering teknologi (NLD)-baserte immaterielle portefølje. Fristen, som skulle utløpe 30. september 2011 har nå blitt utvidet til 17:00, 15. oktober, 2011.

Selskapet besluttet på forlengelsen som ulike halvledere og IC utstyrsprodusenter hadde vist interesse i sin portefølje. Tegal portefølje består av totalt 35 globale og lokale patenter innen plasma-enhanced atomic layer nedfall (ALD), pulset kjemisk damp nedfall (CVD) og NLD.

NLD er en teknologi som integrerer CVD, som er ikke-konforme og gir høy gjennomstrømning og ALD, som er svært konforme og gir lav gjennomstrømning. Denne teknologien hjelper halvledere og IC utstyrsprodusenter å forlenge levetiden av maskinvare basert på CVD prosesser uten å ha behov for å skifte til ALD prosesser som er begrenset av pre-pekere.

Den tekniske know-how og kunnskap om Tegal har ført til oppfinnelsen av mange enheter som LED, forhånd minne og mikroprosessorer. Selskapet er også ansvarlig for utviklingen av sensing og filtrering enheter som nå brukes av de fleste smarttelefoner. Selskapet har også investert i Oppfølgeren Strøm å utvikle ulike Solkraftverket prosjekter og fornybar energi-prosjekter verden over.

Kilde: http://www.Tegal.com

Last Update: 17. October 2011 16:09

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit