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Tegal Estende o Fim Do Prazo na Oferta para sua Carteira da Tecnologia do Depósito de Nanolayer

Published on October 3, 2011 at 3:51 AM

Por Cameron Chai

Tegal baseado E.U. anunciou que estendeu o fim do prazo para oferecer para sua tecnologia do depósito do nanolayer (NLD) - carteira de propriedade intelectual baseada. O fim do prazo, que era expirar o 30 de setembro de 2011 tem sido estendido agora até 5 pm, O 15 de outubro de 2011.

A empresa decidida na extensão como o vário semicondutor e de equipamento do IC fabricantes tinham mostrado um interesse em sua carteira. A carteira de Tegal compreende um total de 35 globais e patentes locais nos campos do depósito atômico plasma-aumentado da camada (ALD), do depósito de vapor químico pulsado (CVD) e do NLD.

NLD é uma tecnologia que integre o CVD, que é não-constituído e dá a produção alta e o ALD, que é altamente constituído e dá a baixa produção. Esta tecnologia ajuda fabricantes do semicondutor e de equipamento do IC a estender a vida do hardware baseada em processos do CVD sem ter a necessidade de deslocar aos processos de ALD que são limitados por precursores.

O "knowhow" e o conhecimento técnicos de Tegal conduziram à invenção de muitos dispositivos tais como o Diodo emissor de luz, a memória avançada e os microprocessadores. A empresa é igualmente responsável para a revelação dos aparelhos filtrantes de detecção e que são usados agora pela maioria de telefones espertos. A empresa igualmente investiu na Potência da Sequela desenvolver em todo o mundo vários projectos da planta de energias solares e projectos de energia renováveis.

Source: http://www.Tegal.com

Last Update: 12. January 2012 13:23

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