Posted in | Nanobusiness

Tegal Продлевает Краиний Срок на Заявке для своего Портфолио Технологии Низложения Nanolayer

Published on October 3, 2011 at 3:51 AM

Камероном Chai

Tegal основанное США объявляло что оно продлило краиний срок для предлагать цену для своей технологии низложения nanolayer (NLD) - основанное портфолио интеллектуальной собственности. Краиний срок, который был терять силу 30-ого сентября 2011 теперь был продлен до 5 pm, 15-ое октября 2011.

Компания решенная на выдвижении по мере того как различный полупроводник и изготовители оборудования IC показали интерес в своем портфолио. Портфолио Tegal состоит из итога 35 глобального и местных патентов в полях плазм-увеличенного атомного низложения слоя (ALD), пульсированного низложения химического пара (CVD) и NLD.

NLD технология которая интегрирует CVD, который non-конформн и дает высокое объём и ALD, который сильно конформно и дает низкое объём. Эта технология помогает полупроводнику и изготовителям оборудования IC расширить жизнь оборудования основанную на процессах CVD без иметь потребность перенести к процессам ALD которые ограничены прекурсорами.

Технические ноу-хау и знание Tegal водили к вымыслу много приборов как СИД, предварительная память и микропроцессоры. Компания также ответствена для развития воспринимая и фильтруя приборов которые теперь использованы большинств умными телефонами. Компания также инвестировала в Силе Продолжения начать различные солнечные проекты электростанции и проекты возобновляющей энергии вокруг мира.

Источник: http://www.Tegal.com

Last Update: 4. June 2015 06:12

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit