Site Sponsors
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
Posted in | Nanobusiness

Tegal 延长在投标的截止日期其 Nanolayer 证言技术投资组合的

Published on October 3, 2011 at 3:51 AM

卡梅伦柴

美国基于 Tegal 宣布它延长了投标的截止日期其 nanolayer 证言技术的 (NLD) - 基于知识产权投资组合。 截止日期,是到期在 2011年 9月 30日现在被延长了至下午5点, 2011年 10月 15日。

在扩展名决定的公司,多种半导体和集成电路设备制造商在其投资组合上表示了兴趣。 Tegal 的投资组合包括总共 35 全球和在等离子改进的基本层证言、搏动的化学气相沉积 (ALD)和 NLD 的域的局部 (CVD)专利。

NLD 是集成 CVD,是非保形并且产生高处理量和 ALD,高度保形并且产生低处理量的技术。 此技术帮助半导体和集成电路设备制造商延长在 CVD 进程基础上的硬件寿命,不用有需要转移到由前体限制的 ALD 进程。

Tegal 技术技术和知识导致了许多设备的发明例如 LEDs、预先的内存和微处理器。 这家公司也负责多数巧妙的电话现在使用感觉的和过滤设备的发展。 这家公司在续集功率也投资了开发多种太阳能发电厂项目和可再造能源项目环球。

来源: http://www.Tegal.com

Last Update: 12. January 2012 13:06

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit