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Tegal 延長在投標的截止日期其 Nanolayer 證言技術投資組合的

Published on October 3, 2011 at 3:51 AM

卡梅倫柴

美國基於 Tegal 宣佈它延長了投標的截止日期其 nanolayer 證言技術的 (NLD) - 基於知識產權投資組合。 截止日期,是到期在 2011年 9月 30日現在被延長了至下午5點, 2011年 10月 15日。

在擴展名決定的公司,多種半導體和集成電路設備製造商在其投資組合上表示了興趣。 Tegal 的投資組合包括總共 35 全球和在等離子改進的基本層證言、搏動的化學氣相沉積 (ALD)和 NLD 的域的局部 (CVD)專利。

NLD 是集成 CVD,是非保形并且產生高處理量和 ALD,高度保形并且產生低處理量的技術。 此技術幫助半導體和集成電路設備製造商延長在 CVD 進程基礎上的硬件壽命,不用有需要轉移到由前體限制的 ALD 進程。

Tegal 技術技術和知識導致了許多設備的發明例如 LEDs、預先的內存和微處理器。 這家公司也負責多數巧妙的電話現在使用感覺的和過濾設備的發展。 這家公司在續集功率也投資了開發多種太陽能發電廠項目和可再造能源項目環球。

來源: http://www.Tegal.com

Last Update: 27. January 2012 00:30

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