由Cameron灣仔
IMEC宣布，它已成功地完成了一個具有自定義，以質量上乘的極端紫外線（EUV）傳感器死亡的芯片組的測試。
目前，該公司整合芯片組在ASML的EUV光刻工具，所謂的NXE：在該領域 3100，以改善他們的關鍵尺寸和覆蓋工具的性能。
晶圓與 IMEC的200mm CMORE線生產模具的EUV傳感器，
這一成就證明，IMEC的CMORE業務線正準備及其合作夥伴提供定制的專用芯片解決方案。傳感器 ASML公司的標準規範和設計，開發，以滿足高靈敏度和壽命高，直接EUV照射劑量為重點。
兩個傳感器是專門開發的校準，校準和焦點透鏡的光刻工具系統。他們已被列入功能模塊和傳感器納入 NXE：3100系統在該領域。第三個傳感器的設計檢查 EUV技術的NXE的用量為：3300。 IMEC的下一個任務是開發和測試今年年底這些傳感器的NXE：3300 EUV光刻工具。
IMEC的CMORE倡議，使企業能夠實現其新穎的設計成緊湊型封裝微。 CMORE工具箱功能上200毫米，其中包括包裝，圖像傳感器，微機電系統，矽光子學和CMOS，測試，設計和可靠性的設備技術的廣泛。繼這些 EUV技術傳感器，該公司的CMORE主動將設計光刻，高端的專業成像，電力和能源管理和生物傳感芯片解決方案。
來源： http://www2.imec.be