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आजकल, प्लाज्मा नक़्क़ाशी प्रौद्योगिकी व्यापक रूप से किया गया है नैनो पैमाने पर अर्धचालक उपकरणों के 20 एनएम के लिए नीचे उत्पादन के लिए इस्तेमाल किया. Lam अनुसंधान प्रौद्योगिकीविदों अब प्लाज्मा नक़्क़ाशी प्रौद्योगिकी की उन्नति पर काम कर रहे हैं के लिए भी छोटे, तेज और कसकर बांध बहुउद्देशीय चिप्स का उत्पादन कर सकते हैं.
प्लाज्मा नक़्क़ाशी प्रौद्योगिकी (ढांकता हुआ) इन्सुलेट और एकीकृत परिपथ (आईसी) की प्रवाहकीय परतों चिप्स पर नाजुक परिभाषित पैटर्न बनाता है. इस तकनीक लिथोग्राफी का प्रतिबंध है, एक ऑप्टिकल तकनीक सिलिकॉन wafers पर nanoelectronic सुविधाओं के उत्पादन के लिए टेम्पलेट्स बनाने के लिए इस्तेमाल किया compensating के लिए सक्षम है. ट्रांजिस्टर और अन्य भागों के छोटे आकार के कारण, लिथोग्राफी तकनीक सटीक टेम्पलेट्स बनाने के लिए आईसीएस पर छोटे ट्रांजिस्टर के लाखों जगह करने में सक्षम नहीं है. अब वैज्ञानिकों को चरम पराबैंगनी लिथोग्राफी प्रौद्योगिकी विकसित कर रहे हैं इस मुद्दे से निपटने के लिए.
प्लाज्मा नक़्क़ाशी प्रौद्योगिकी के किनारों को चमकाने और चिप के छोटे भागों के अंतराल पैकिंग लिथोग्राफी तकनीक की खामियों को सुधारने के लिए उपयोग किया जाता है. इस तकनीक को भी जैसे डबल patterning लिथोग्राफी की क्षमताओं के विस्तार और सीधे संरचनाओं कि टेम्पलेट्स की तुलना आकार में छोटे होते हैं बनाने. हालांकि, इस तकनीक को भी अपनी बुनियादी रसायन विज्ञान और भौतिकी के मौलिक कानून की वजह से सीमाओं पड़ा है.
Lam अनुसंधान में प्रौद्योगिकीविदों पर काम कर रहे हैं कुशलतापूर्वक प्लाज्मा, तटस्थ और आरोप लगाया कणों की एक गैस मिश्रण के विभिन्न तत्वों की विशेषताओं में हेरफेर प्लाज्मा नक़्क़ाशी प्रक्रिया में. उनका उद्देश्य सामग्री के शेष भाग को प्रभावित किए बिना ध्यान से खोदना एक एक समय (परमाणु परत नक़्क़ाशी) में परमाणु परत है. प्लाज्मा तकनीक प्रौद्योगिकी उन्नति भविष्य पीढ़ी उपभोक्ता इलेक्ट्रॉनिक्स उपकरणों के उत्पादन में महत्वपूर्ण हो जाएगा.
स्रोत: http://www.aps.org