Lavoro dei Ricercatori su Miglioramento di Tecnologia Incisione del Plasma Per Da Costruzione Nanoelectronics

Published on November 15, 2011 at 2:27 AM

Da Cameron Chai

Al Giorno D'oggi, la tecnologia incisione del plasma è stato ampiamente usato per la produzione delle unità a semiconduttore al nano-disgaggio giù a 20 nanometro. I tecnologi della Ricerca di Fuga ora stanno lavorando all'avanzamento della tecnologia incisione del plasma per produrre gli ancora più piccoli, chip multiuso più rapidamente e strettamente imballati.

La tecnologia incisione del Plasma fa i reticoli delicato definiti sull'isolamento (dielettrico) e sui livelli conduttivi dei chip del circuito integrato (IC). Questa tecnica è capace di compensazione delle restrizioni della litografia, una tecnica ottica usata per creare i modelli per la produzione delle funzionalità nanoelectronic sulle lastre di silicio. dovuto il più di piccola dimensione dei transistor e di altre parti, la tecnica della litografia non può creare i modelli accurati per collocare milioni di transistor sui CI minuscoli. Gli Scienziati ora stanno sviluppando la tecnologia ultravioletta estrema della litografia per affrontare questa emissione.

La tecnologia incisione del Plasma è utilizzata per rettificare i difetti della tecnica della litografia lucidando le barriere ed imballando le lacune di più piccole parti del chip. Questa tecnica egualmente estende le capacità della litografia quale il doppio che modella e direttamente che crea le strutture che sono più piccole nella dimensione confrontata a quella dei modelli. Tuttavia, la tecnica egualmente ha presentata le sue limitazioni di base causate dalle leggi fondamentali di chimica e di fisica.

I tecnologi alla Ricerca di Fuga stanno lavorando sopra per manipolare efficientemente le caratteristiche degli elementi differenti del plasma, un miscuglio di gas delle particelle neutrali e fatte pagare, nel trattamento incisione del plasma. Il Loro scopo è di incidere con attenzione un livello dell'atomo per volta (incisione del atomico-livello), senza pregiudicare la parte restante del materiale. L'avanzamento di tecnologia di tecnologia del plasma sarà critico da produrre le unità di prodotti elettronici di consumo della futuro-generazione.

Sorgente: http://www.aps.org

Last Update: 12. January 2012 12:38

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