De Onderzoekers Werken aan de Verbetering van de Technologie van de Ets van het Plasma om Nanoelectronics Te Vervaardigen

Published on November 15, 2011 at 2:27 AM

Door Cameron Chai

Tegenwoordig, de technologie van de plasmaets wijd is gebruikt voor de productie van halfgeleiderapparaten bij de nano-schaal neer aan 20 NM. De technologen van het Onderzoek van Lam werken nu aan de vorderings van de technologie van de plasmaets om nog kleinere, snellere en strak ingepakte multifunctionele spaanders te produceren.

De de etstechnologie van het Plasma maakt tactvol bepaalde patronen op de (diëlektrisch) isolerende en geleidende lagen (IC) spaanders van geïntegreerde schakelingen. Deze techniek kan de beperkingen van lithografie, een optische die techniek compenseren wordt gebruikt om malplaatjes te creëren voor het veroorzaken van nanoelectronic eigenschappen op siliciumwafeltjes. wegens de kleinere grootte van de transistors en andere delen, kan de lithografietechniek geen nauwkeurige malplaatjes creëren om miljoenen transistors op uiterst kleine ICs te plaatsen. De Wetenschappers ontwikkelen nu extreme ultraviolette lithografietechnologie om dit onderwerp te behandelen.

De de etstechnologie wordt van het Plasma gebruikt om de gebreken van de lithografietechniek te rectificeren door de randen op te poetsen en hiaten van de kleinere delen van de spaander in te pakken. Deze techniek breidt ook de mogelijkheden van lithografie zoals dubbel uit dat en direct tot structuren vormt leidt die kleiner zijn in grootte in vergelijking met dat van de malplaatjes. Nochtans, heeft de techniek ook zijn fundamentele die beperkingen gehad door de fundamentele wetten van chemie en fysica worden veroorzaakt.

De technologen bij Onderzoek Lam werken om de kenmerken van de verschillende elementen van het plasma efficiënt te manipuleren, een gasmengsel van neutrale en geladen deeltjes, in het proces van de plasmaets. Hun doel is één atoomlaag (atoom-laag ets), tegelijkertijd zorgvuldig te etsen zonder het resterende deel van het materiaal te beïnvloeden. De de technologievordering zal van plasmatechnologie kritiek zijn om de toekomstig-generatieelektronikaapparaten te produceren van de consument.

Bron: http://www.aps.org

Last Update: 12. January 2012 12:32

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit