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Trabalho dos Pesquisadores na Melhoria da Tecnologia Gravura A Água-forte do Plasma Para Fabricar Nanoelectronics

Published on November 15, 2011 at 2:27 AM

Por Cameron Chai

Hoje Em Dia, tecnologia gravura a água-forte do plasma foi amplamente utilizado para a produção de dispositivos de semicondutor na nano-escala para baixo a 20 nanômetro. Os tecnólogos da Pesquisa do Lam estão trabalhando agora no avanço da tecnologia gravura a água-forte do plasma para produzir mesmo microplaquetas de múltiplos propósitos menores, mais rapidamente e firmemente embaladas.

A tecnologia gravura a água-forte do Plasma faz testes padrões delicada definidos nas camadas isolando (dielétrico) e condutoras das microplaquetas do circuito integrado (IC). Esta técnica é capaz de compensar as limitações da litografia, uma técnica óptica usada para criar moldes para produzir características nanoelectronic em bolachas de silicone. Devido ao tamanho menor dos transistor e de outras peças, a técnica da litografia não pode criar moldes exactos para colocar milhões de transistor em CI minúsculos. Os Cientistas estão desenvolvendo agora a tecnologia ultravioleta extrema da litografia para abordar esta edição.

A tecnologia gravura a água-forte do Plasma é utilizada para rectificar as falhas da técnica da litografia lustrando as bordas e embalando diferenças das partes menores da microplaqueta. Esta técnica igualmente estende as capacidades da litografia tais como o dobro que modela e que cria directamente as estruturas que são menores em tamanho comparadas àquela dos moldes. Contudo, a técnica igualmente teve suas limitações básicas causadas pelas leis fundamentais da química e da física.

Os tecnólogos na Pesquisa do Lam estão trabalhando sobre para manipular eficientemente as características dos elementos diferentes do plasma, uma mistura de gases de partículas neutras e cobradas, no processo gravura a água-forte do plasma. Seu alvo é gravar com cuidado uma camada do átomo de cada vez (gravura a água-forte da atômico-camada), sem afetar a parte restante do material. O avanço de tecnologia da tecnologia do plasma será crítico para produzir os dispositivos dos produtos electrónicos de consumo da futura geração.

Source: http://www.aps.org

Last Update: 12. January 2012 12:11

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