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Toppan-Fotomasken, zum $20 Million in seinem Beteiligungsgeschäft-Teildienst in Shanghai Zu Investieren

Published on November 19, 2011 at 2:45 AM

Durch Cameron Chai

Die Tochtergesellschaft Toppan-Druckens, Toppan-Fotomasken hat Pläne erklärt, um $20 Million zu investieren, um die Produktionskapazitäts- und Technologiefähigkeiten seines Shanghai-Beteiligungsgeschäftteildienstes zu erweitern, um die steigende Nachfrage der Halbleiterindustrie in China abzudecken.

Toppan-Fotomasken leitet eine Firma, die Toppan Photomasks Company Limited, Shanghai, durch eine Beteiligungsgeschäftpartnerschaft mit dem Shanghai-Institut der Mikrosystems-und Informationstechnologie benannt wird. Durch diese Investition erweitert die Firma beträchtlich die Produktionskapazität von den Fotomasken, die in der Halbleiterbauelementproduktion verwendet werden und erhöht seine Fähigkeit, um die ausführlicheren Fotomasken unten herzustellen, die Ausrüstungsbeschreibungen bis 90 nm haben.

Als Teil des Expansionsplanes bauen Toppan-Fotomasken eine ZusatzProduktionsanlage auf, die 4.950 Quadrat misst. m in der Nähe der vorhandene Teildienst in Shanghai. Der neue Teildienst kennzeichnet Reinraum und verbesserte Fähigkeiten der Lithographie, der Inspektion, des Prozesses und der Reparatur. Bau wird geplant, um in Q1 2012 zu beginnen, wenn die Fertigstellung im Dezember 2012 eingeplant ist.

Toppan-Fotomasken produziert Fotomasken zu den bedeutenden Halbleiterbauelementherstellern und -Modehäusern, einschließlich HeJian-Technologie (Suzhou), Fortgeschrittene Halbleiter-Herstellung, Anmut-Halbleiter-Herstellung, Mikroelektronik Shanghais HuaLi, CSMC-Technologien und Shanghai Hua Hong NEC Electronics.

Der ExekutivVizepräsident von Weltweiten Verkäufen an Toppan-Fotomasken, Michael Hadsell erklärte, dass die Firma die kontinuierlichen Investitionspläne hat, zum der Nachfrage seiner Abnehmer für Fotomasken zu befriedigen. Der Präsident des Shanghai-Instituts der Mikrosystems-und Informationstechnologie und des Akademikers der Chinesischen Akademie von Wissenschaften, Professor XI Wang erklärte, dass das Institut glaubt, dass neue 90 nm Fotomaskentechnologie Toppan-Fotomasken' eine Taste ist, wenn sie die Wettbewerbsfähigkeit der Halbleiterprodukte in China emporhebt.

Quelle: http://www.toppan.co.jp

Last Update: 12. January 2012 15:06

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