Site Sponsors
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions

Photomasks de Toppan Para Invertir $20 millones en su Recurso Conjunto en Shangai

Published on November 19, 2011 at 2:45 AM

Por Cameron Chai

La filial de la Impresión de Toppan, Photomasks de Toppan ha declarado planes para invertir $20 millones para desplegar las capacidades de la capacidad de producción y de la tecnología de su recurso conjunto de Shangai para cubrir la demanda creciente de la industria del semiconductor en China.

Los Photomasks de Toppan dirigen una compañía nombrada Toppan Photomasks Company Limited, Shangai, con una sociedad conjunta con el Instituto de Shangai de la Tecnología De La Información del Microsistema y. Con esta inversión, la compañía desplegará importante la capacidad de producción de photomasks utilizados en la producción del dispositivo de semiconductor, y aumenta su capacidad para fabricar photomasks más detallados que tienen características del diseño hacia abajo a 90 nanómetro.

Como parte del plan de expansión, los Photomasks de Toppan construirán una instalación de producción de la adición que mide 4.950 sq. m cerca la instalación existente en Shangai. El nuevo recurso ofrecerá el sitio limpio y capacidades mejoradas de la litografía, del examen, del proceso y de la reparación. La Construcción slated para comenzar en Q1 2012, con la realización programada en diciembre de 2012.

Los Photomasks de Toppan producen photomasks a los fabricantes del dispositivo de semiconductor y a las casas importantes del diseño, incluyendo la Tecnología de HeJian (Suzhou), la Fabricación Avance del Semiconductor, la Fabricación del Semiconductor de la Tolerancia, la Microelectrónica de Shangai HuaLi, las Tecnologías y Shangai Hua Hong NEC Electronics de CSMC.

El Vicepresidente Ejecutivo de Ventas Mundiales en los Photomasks de Toppan, Michael Hadsell declaró que la compañía tiene planes de inversión contínuos para cubrir la demanda de sus clientes para los photomasks. El Presidente del Instituto de Shangai de la Tecnología De La Información del Microsistema y Y del académico de la Academia de Ciencias China, Profesor XI Wang declaró que el instituto cree que de Toppan nueva 90 nanómetro tecnología del photomask de los Photomasks la' será un clave en elevar la competitividad de los productos de semiconductor en China.

Fuente: http://www.toppan.co.jp

Last Update: 12. January 2012 14:42

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit