Site Sponsors
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D

Toppan fotomasker att investera $ 20 miljoner i dess joint venture i Shanghai

Published on November 19, 2011 at 2:45 AM

Av Cameron Chai

Toppan Printing dotterbolag Toppan Fotomasker har förklarat planer på att investera $ 20 miljoner för att utöka produktionskapaciteten och kapacitet teknik av Shanghai joint venture anläggning för att möta den växande efterfrågan i halvledarindustrin i Kina.

Toppan Fotomasker driver ett företag vid namn Toppan Fotomasker Company Limited, Shanghai, genom ett joint venture samarbete med Shanghai Institute of Microsystem och informationsteknik. Genom denna investering kommer bolaget att öka väsentligt produktionskapaciteten av fotomasker som används i halvledarenheter produktionen och öka sin kapacitet att tillverka mer detaljerad fotomasker ha design ner till 90 nm.

Som en del av expansionen planen kommer Toppan Fotomasker bygga en anläggning utöver produktion mäter 4950 kvm i närheten av befintlig anläggning i Shanghai. Den nya anläggningen kommer att innehålla renrum och förbättrade funktionerna i litografi, inspektions-, process-och reparation. Byggstart är tänkt att starta under Q1 2012 och ska vara färdigställt i december 2012.

Toppan fotomasker producerar fotomasker till stora tillverkare av halvledarkomponenter och hus design, inklusive Hejian Technology (Suzhou), Advanced Semiconductor Manufacturing, Grace Semiconductor Manufacturing, Shanghai Huali Microelectronics, CSMC Technologies och Shanghai Hua Hong NEC Electronics.

Vice VD för global försäljning på Toppan fotomasker, uppgav Michael Hadsell att bolaget har kontinuerlig investeringsplaner för att möta efterfrågan hos sina kunder för fotomasker. Ordföranden i Shanghai Institute of Microsystem och IT-akademiker av den kinesiska vetenskapsakademin, säger professor Xi Wang att institutet anser att Toppan Fotomasker "nya 90 nm fotomasker teknik kommer att vara en nyckel i upplyftande konkurrenskraften för halvledarprodukter i Kina.

Källa: http://www.toppan.co.jp

Last Update: 21. November 2011 20:33

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit