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Posted in | Nanobusiness

Picosun 领先在 ALD 工艺过程开发的

Published on November 30, 2011 at 9:18 PM

Picosun Oy,科技目前进步水平基本层证言设备基于芬兰的全球制造商 (ALD),顺利地称了几个新,重要 ALD 进程。

即复合材料,多种新的硫化物, Gd2O2S (在 Mikko Ritala 教授的组原来地开发的进程基础上在赫尔辛基大学,芬兰) 即,铟硫化物和锌硫化物和氧化物,锑氧化物和 Al2O3/Ta2O5 nanolaminates 和混合氧化物 (也在低温),为工业规模进程现在是可用的。 金属、金子、铜、银和钌和金属化合物材料, TiAlCN 和锡,由在工业规模薄酥饼范围的新颖的 ALD 进程顺利地也存款。

即新的硫化物和氧化物有多种应用在光学、电子和显示行业和作为多功能防护层。 另一方面, ALD 堆焊金属/金属层寻找他们的客户特别是 MEMS/NEMS (微小/Nanoelectromechanical 系统) 和其他电子和集成电路行业的,即通过硅vias (TSV) 和其他高长宽比 (HAR)结构是在现代 3D 被堆积的晶片结构的一个公用途径。 当通过或 HAR 沟槽维数缩小对毫微米缩放比例时, ALD 是联络金属化,种子、障碍或者黏附力层可以存款与令人满意的正形性、均一和针孔自由的质量的唯一的可能的薄膜涂层方法即。

“为了保留我们在为国际水平的行业客户,它服务的带领的位置也坚持的是最大重要主角在 ALD 工艺过程开发。 与最高级 ALD 全世界研究小组的 Picosun 的密切关系和我们自己的人事部无敌的 ALD 专门技术总是做 Picosun 您的第一个合作伙伴,不仅作为 ALD 设备提供者,而且在 ALD 工艺过程开发。 Picosun 的高效和创新生产缩放比例高处理量 ALD 工具设计,这个处理缩放比例是快速和容易和从未减弱 Picosun 的商标, unparalleledly 非常好的影片,并且进程质量”,总结 Picosun 的总经理 Juhana Kostamo。

Picosun Oy 是科技目前进步水平 ALD 系统一个基于芬兰的全球制造商,几乎表示连续性对四十年专用,独有 ALD 反应器设计和制造。 Picosun 的全球总部位于 Espoo,芬兰,其生产设施在 Masala、 Kirkkonummi 和其美国总部在底特律,密执安。 Picosun 的 SUNALE ALD 工具由在四个大陆间的多种行业选择为生产。 Picosun Oy 是 Stephen Industries Inc. Oy 的部分。

Last Update: 12. January 2012 14:58

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