NanoWizard3 AFM JPK Получает Новые Количественные Возможности Воображения

Published on December 8, 2011 at 2:24 AM

Аппаратуры JPK, мир-ведущее изготовление nanoanalytic измерительного оборудования для исследования в науках о жизни и мягкое дело, объявляют exciting новые количественные возможности воображения для недавно запущенной системы NanoWizard3 AFM.

168 nano-колец ДНА bp на протеине Поли-L-Орнитина наслаивают в буфферное разрешение проблемы и кривый расстояния усилия на маркированный этап. Размер Развертки: 80 x 80 nm. Z-Ряд: 2,5 nm. Образец imaged в короткозамкнутом витке с возможностью ЦИ. Учтивость Образца Др. Damian Ackermann, ИЗВЕСТОК, Университета Бонн, Германии.

ЦИ новый количественный режим воображения от JPK. Оно было начат для того чтобы сделать воображение AFM более легким чем всегда раньше. С ЦИ, крив-основанное усилие режим воображения, пользователь имеет полный контроль над усилием подсказк-образца на каждом пикселе изображения. Никакая потребность для регулировки setpoint или увеличения пока просматривающ. Прикладывающ технологию ForceWatch JPK, ЦИ поставляет выдающие результаты на бросая вызов образцах как мягкие (гидрогели или биомолекулы), липкие (полимеры или бактерии), свободно прикрепленные образцы (nanotubes или частицы вируса в жидкости) или образцы с крутыми краями (порошками, структурами MEMS). Режим ЦИ в частности полезн в зонах которые требуют и высокому разрешению и принуждают чувствительность как биология, полимеры и поверхностная наука.

Заново начатое ЦИ и Ци-Предварительные режимы делают NanoWizard AFM самую разностороннюю аппаратуру как для лидирующего исследования, так и для по заведенному порядку пользы. Сравнено к другим режимам воображения, ЦИ поставляет реальные количественные данные. AFM двигает от чисто воображения для того чтобы поставить количественное измерение. Измерить реальную и полную кривый расстояния усилия на каждом пикселе изображения дает всю информацию о местном взаимодействии подсказк-образца с высоким пространственным разрешением.

Ци-Предварительный пакет программ выдвижение стандартной версии ЦИ включающ количественное измерение свойств nano-маштаба материальных как жесткость, прилипание, диссипация и больше. Еще раз, данные по воображения и количествены и имеют высокое пространственное разрешение.

Говорящ о новой возможности ЦИ, головка применений и работа с клиентом, Heiko Haschke, сказали: «Мы конструировали это ПО для того чтобы быть прямодушны для beginner использовать пока также выдвигающ варианты для того чтобы отвечать потребностямы пользователя который любит приложить их собственные введенные информачи режимы. Факт что мы измеряем полные кривые усилия на каждом пикселе который обеспечивает реальное общее назначение для пользователя - количественные данные легк-к-продукции.»

Last Update: 12. January 2012 14:40

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit