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EV Gruppe und Eulitha, zum auf dem Produzieren von Nanostructures Unter Verwendung der Lithographie-Techniken Zusammenzuarbeiten

Published on January 10, 2012 at 7:52 PM

EV-Gruppe (EVG), ein führender Lieferant des Wafermasseverbindungs- und -lithographiegeräts für das MEMS, Nanotechnologie und Halbleitermärkte, kündigten heute an, dass es eine Gelenkentwicklung und eine Lizenzvereinbarung mit Eulitha AG, ein Pionier und Führer in der Produktion von hochwertigen nanostructures unter Verwendung der hoch entwickelten Lithographietechniken unterzeichnet hat.

EVG integriert Eulithas maskengesteuerte ultraviolette photolithographietechnologie PHABLE ( (UV)TM) mit Maskenausrichtungstransport-Produktplattform EVGS automatisierter mit dem Ziel des Entwickelns einer Niedrig-Kosten-vonbesitz (CoO) nanopatterning Lösung, um die Produktion von Hochhelligkeit lichtemittierenden Dioden (HB-LED) zu aktivieren. Mit Demofähigkeiten an Ort und Stelle bereits, werden die ersten Produkte erwartet, um im Laufe des Jahres zu versenden.

Entsprechend Unbegrenzten LED-Marktforschungsunternehmen Strategien (Mountain View, Calif.), wird der Markt für Hochhelligkeit LED erwartet, um von $11,2 Milliarde im Jahre 2010 bis $16,2 Milliarde im Jahre 2014 zu wachsen, getrieben durch Anwendungen wie FERNSEHbacklighting, -tragbare Geräte und in zunehmendem Maße, indem man beleuchtet. Um diese erhöhte Nachfrage zu befriedigen, benötigen LED-Hersteller neue Herstellungslösungen die die Beleuchtungs-Leistungsfähigkeit ihrer Produkte beim Herstellungskosten unten halten erhöhen können. Durch ihre Gelenkentwicklung Vereinbarung erforschen EV Gruppe und Eulitha neue Fertigungstechniken, die Kosten- und Technologieanforderungen LED-Hersteller unterstützen.

Die Kombination Eulithas von Vollfeld-Berührungstechnologie mit Maskenjustierungsplattform EVGS gut eingerichteter liefert preiswerte, automatisierte Fälschung von photonischen nanostructures über großen Gebieten und unterstützt die Produktion Energiesparender LED, der Solarzellen und der Flüssigkristallbildschirmanzeigen. Sie kombiniert die niedrigen Kosten-, leicht anwendbaren und berührungsfreienfähigkeiten der Näherungslithographie mit Submikronauflösung--Herstellung sie ideal entsprochen für Gebrauch in kopierenden Saphirsubstratflächen, um die helle Extraktion (und folglich die Leistungsfähigkeit) von LED-Einheiten zu erhöhen. EVG plant, eine PHABLE-aktivierte Anlage EVG620 als Extension seiner gut eingerichteten Maskenjustierungs-Anlagenplattform anzubieten--Abnehmern eine sogar breitere Wahl von Konfigurationsoptionen geben.

„Wir freuen uns, zu arbeiten, mit EV-Gruppe, zum von Kommerzialisierung von PHABLE durch die Integration dieser neuen Technologie mit Masken-Ausrichtungstransportplattform EVGS groß zu beschleunigen Industrie-führender,“ angegebenes Harun Solak, CEO von Eulitha. „Wir glauben, dass die Synergien unserer jeweiligen Technologien großes Potenzial haben, die Auflösungs- und Volumenproduktionsfähigkeiten von Lithographie Steppers an einem Bruch der Kosten zur Verfügung zu stellen--LED-, Optik- und photonicshersteller mit extrem festen Kostenbeschränkungen aktivieren die Gelegenheit, ihre Technologiestraßenkarten auf höhere Leistungsniveaus auszudehnen.“

Notierter Hermann Waltl, Exekutivverkäufe und Kundenbetreuungsdirektor, EV-Gruppe, „Eulithas Sachkenntnis in der Nanofabrikation lässt sie einen idealen Partner mit auf neuen kopierenden Lösungen für die LED-Industrie zusammenarbeiten. Wir werden erregt, um mit diesem Verhältnis zu Eulitha zu beginnen und unsere nachgewiesene Maskenausrichtungstransportplattform für unsere LED-Abnehmer voranzubringen.“

Last Update: 11. January 2012 04:20

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