Grupo y Eulitha de EV A Colaborar en Producir Nanostructures Usando Técnicas de la Litografía

Published on January 10, 2012 at 7:52 PM

El Grupo de EV (EVG), un surtidor de cabeza del equipo de la vinculación y de la litografía del fulminante para el MEMS, nanotecnología y mercados del semiconductor, anunciaron hoy que ha firmado un acuerdo del desarrollo conjunto y de licencia con Eulitha AG, pionero y arranque de cinta en la producción de nanostructures de alta calidad usando técnicas avanzadas de la litografía.

EVG integrará la tecnología ultravioleta máscara-basada de la fotolitografía del PHABLE de Eulitha ( (UV)TM) con la plataforma automatizada del producto del alineador de la máscara de EVG con el objetivo de desarrollar una solución (CoO) nanopatterning de la inferior-costo-de-propiedad para activar la producción de los diodos electroluminosos de la alto-brillantez (Hb-LED). Con capacidades de la versión parcial de programa en el lugar ya, se prevee que los primeros productos expidan a finales de este año.

Según las Estrategias de la firma de estudios de mercado del LED Ilimitadas (Mountain View, California), se prevee que el mercado para la alto-brillantez LED crezca a partir de $11,2 mil millones en 2010 a $16,2 mil millones en 2014, impulsado por aplicaciones tales como dispositivos que hacen excursionismo, movibles de la TV y cada vez más encendiéndose. Para cubrir esta demanda creciente, los fabricantes del LED necesitan las nuevas soluciones de la fabricación que pueden aumentar la eficiencia del alumbrado de sus productos mientras que mantienen bajos costos de fabricación. Con su acuerdo del desarrollo conjunto, el Grupo y Eulitha de EV explorarán las nuevas tecnologías de fabricación que utilizan requisitos del costo y de la tecnología de los fabricantes del LED.

Combinar la tecnología de la exposición del completo-campo de Eulitha con la plataforma establecida de la alineación de la máscara de EVG proporciona a la fabricación barata, automatizada de nanostructures fotónicos sobre áreas extensas, y utiliza la producción de LED económico de energía, de células solares y de pantallas de cristal líquido. Combina las bajas capacidades del costo, de fácil utilización y sin contacto de la litografía de la proximidad con la resolución del submicron--haciéndolo adecuado idealmente para el uso en substratos del zafiro que modelan para aumentar la extracción pálida (y así la eficiencia) de los dispositivos del LED. EVG proyecta ofrecer un sistema PHABLE-activado EVG620 como extensión a su plataforma establecida del sistema de la alineación de máscara--dando a clientes una opción incluso más amplia de las opciones de configuración.

“Observamos hacia adelante al trabajo con el Grupo de EV para acelerar grandemente la comercialización de PHABLE con la integración de esta tecnología nueva con la plataforma industria-de cabeza del alineador de la máscara de EVG,” Harun declarado Solak, CEO de Eulitha. “Creemos que las sinergias de nuestras tecnologías respectivas tienen gran potencial de proporcionar a las capacidades de la resolución y de la volumen-producción de los steppers de la litografía en una parte del costo--activando fabricantes del LED, de la óptica y del photonics con apremios de costo extremadamente apretados la oportunidad de extender sus mapas itinerarios de la tecnología a niveles más altos de funcionamiento.”

Hermann Conocido Waltl, ventas ejecutivas y director de la atención al cliente, Grupo de EV, la “experiencia de Eulitha en la nanofabricación les hace a un socio ideal para colaborar con en las nuevas soluciones que modelan para la industria del LED. Nos excitan para emprender este lazo con Eulitha y para avance nuestra plataforma probada del alineador de la máscara para nuestros clientes del LED.”

Last Update: 11. January 2012 04:34

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