Groupe et Eulitha d'EV À Collaborer sur Produire Nanostructures Utilisant des Techniques de Lithographie

Published on January 10, 2012 at 7:52 PM

Le Groupe d'EV (EVG), un principal fournisseur de matériel de métallisation et de lithographie de disque pour le MEMS, nanotechnologie et marchés de semi-conducteur, ont aujourd'hui annoncé qu'il a signé un développement conjoint et un contrat d'autorisation avec Eulitha AG, un pionnier et amorce dans la production des nanostructures de haute qualité utilisant des techniques avancées de lithographie.

EVG intègrera la technologie ultra-violette masque-basée de photolithographie du PHABLE d'Eulitha ( (UV)TM) avec la plate-forme automatisée de produit de dispositif d'alignement du masque d'EVG dans le but de développer une solution (CoO) nanopatterning de faible-coût-de-propriété pour activer la production des lights emitting diode de haut-brilliance (HB-LED). Avec des capacités de démo en place déjà, on s'attend à ce que les premiers produits se transportent dans le courant de l'année.

Selon des Stratégies de société d'étude de marchés de LED Illimitées (Mountain View, Californie), on s'attend à ce que le marché pour la haut-brilliance LED se développe de $11,2 milliards en 2010 à $16,2 milliards en 2014, piloté par des applications telles que le contre-jour, les périphériques mobiles de TV et de plus en plus par l'allumage. Pour satisfaire cette exigence accrue, les constructeurs de LED ont besoin des solutions neuves de fabrication qui peuvent augmenter l'efficience d'éclairage de leurs produits tout en réduisant le coût de fabrication. Par leur convention de développement conjoint, le Groupe et l'Eulitha d'EV exploreront les technologies manufacturières neuves qui supportent des conditions du coût et de la technologie des constructeurs de LED.

La Combinaison de la technologie d'exposition de la plein-zone d'Eulitha avec la plate-forme bien établie de cadrage de masque d'EVG fournit le petit prix, fabrication robotisée des nanostructures photoniques au-dessus des vastes zones, et supporte la production des LED de rendement optimum, des piles solaires et des écrans à cristaux liquides. Elle combine les capacités de coût bas, faciles d'utilisation et de non contact de la lithographie de proximité avec la définition submicronique--l'effectuant idéalement adaptée à l'utilisation en substrats de structuration de saphir afin d'augmenter l'extraction légère (et ainsi l'efficience) des dispositifs de LED. EVG planification pour offrir un système EVG620 PHABLE-activé comme extension à sa plate-forme bien établie de système de cadrage de masque--donnant à abonnées un choix encore plus large des options de configuration.

« Nous attendons avec intérêt de fonctionner avec le Groupe d'EV pour accélérer grand la commercialisation de PHABLE par l'intégration de cette technologie nouvelle avec la plate-forme de dispositif d'alignement de masque du leader d'EVG, » Harun Solak, PRÉSIDENT indiqué d'Eulitha. « Nous croyons que les synergies de nos technologies respectives ont le potentiel grand de fournir les capacités de définition et de production de masse des steppers de lithographie à une fraction du prix--activant des constructeurs de LED, de bloc optique et de photonics avec des contraintes de coût extrêmement serrées l'opportunité d'étendre leurs calendriers de lancement de technologie à des niveaux de performance plus élevés. »

Hermann Waltl, ventes exécutives et directeur Remarquable de support technique, Groupe d'EV, les « compétences d'Eulitha dans la nanofabrication leur incite un associé idéal pour collaborer avec sur les solutions de structuration neuves pour l'industrie de LED. Nous sommes excités pour nous embarquer sur cette relation avec Eulitha et pour avancer notre plate-forme prouvée de dispositif d'alignement de masque pour nos abonnées de LED. »

Last Update: 11. January 2012 04:18

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