石版印刷の技術を使用して Nanostructures の作成で協力する EV のグループおよび Eulitha

Published on January 10, 2012 at 7:52 PM

高度の石版印刷の技術を使用して良質の nanostructures の生産の Eulitha AG、開拓者およびリーダーの接合箇所開発そして使用許諾契約に署名したことを EV のグループ (EVG)、 MEMS のナノテクノロジーおよび半導体の市場のためのウエファーの結合および石版印刷装置の一流の製造者は、今日発表しました。

EVG は Eulitha の PHABLE (TM) の EVG の高明るさの (UV)発光ダイオード (Hb LEDs) の生産を可能にするために低費用の所有権の nanopatterning 解決の開発の目的 (CoO)の自動化されたマスクのアライナの製品のプラットホームとのマスクベースの紫外写真平版の技術を統合します。 既にデモの機能と、最初の製品は今年末頃に出荷すると期待されます。

無制限 LED の市場調査会社の作戦に従って (マウンテンビュー、カリフォルニア)、高明るさ LEDs のための市場は TV の逆光照明育つと、モバイル機器のようなアプリケーションとますますつくことによって 2010 年から 2014 年に $16.2十億に $11.2十億から、運転されて期待されます。 この増加する需要に応じるためには、 LED の製造業者は製造原価を固定している間製品の照明効率を高めることができる新しい製造業の解決を必要とします。 接合箇所開発の一致によって、 EV のグループおよび Eulitha は LED の製造業者の費用および技術の条件をサポートする新しい製造技術を探索します。

EVG の確立したマスク位置合わせのプラットホームによって Eulitha の全フィールド露出の技術を結合することは大きい領域上の光通信の nanostructures の低価格の、自動化された製造を提供し、エネルギー効率が良い LEDs、太陽電池および液晶表示装置の生産をサポートします。 それはミクロ以下の解像度と近さの石版印刷の低価格、使い易いおよび無接触機能を結合します--LED 装置の軽い抽出 (およびこうして効率を) 高めるために理想的に模造のサファイアの基板の使用に適するそれを作ります。 EVG は確立したマスク位置合わせシステムプラットホームに拡張として PHABLE 可能にされた EVG620 システムを提供することを計画します--顧客にコンフィギュレーションオプションのより広い選択を与えます。

「私達は EVG の工業一流マスクのアライナのプラットホームとのこの新しい技術の統合によって PHABLE の商業化を非常に加速する EV のグループを使用を楽しみにしています」示された Harun Solak、 Eulitha の CEO。 「私達は私達のそれぞれの技術の共同作用にわずか費用で石版印刷のステッパーの解像度およびボリューム生産の機能を提供する大きい潜在性があることを信じます--非常に逼迫した費用制約条件の LED、光学および photonics の製造業者を可能にしますパフォーマンスのハイレベルに技術の道路地図を伸ばす機会」。

注目される Hermann Waltl、管理の販売およびカスタマ・サポートディレクターの EV のグループは LED 工業のための新しい模造の解決でと協力するために、 「nanofabrication の Eulitha の専門知識それらに理想的なパートナーをします。 私達は Eulitha のこの関係で積み込み、私達の LED の顧客のための私達の証明されたマスクのアライナのプラットホームを進めるために刺激されます」。

Last Update: 11. January 2012 04:24

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