Site Sponsors
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions

EV Groep en Eulitha om bij het Produceren van Nanostructures Samen Te Werken Gebruikend de Technieken van de Lithografie

Published on January 10, 2012 at 7:52 PM

EV Groepeer me (EVG), een belangrijke leverancier van wafeltje die plakken en de lithografieapparatuur voor de markten van MEMS, van de nanotechnologie en van de halfgeleider, kondigde vandaag aan dat het een gezamenlijk-ontwikkeling en een licentieovereenkomst met Eulitha AG heeft ondertekend, een pionier en een leider in de productie van nanostructures van uitstekende kwaliteit gebruikend geavanceerde lithografietechnieken.

EVG zal ultraviolette van PHABLE van Eulitha (TM) op masker-gebaseerde fotolithografie (UV)technologie met het maskeraligner van EVG geautomatiseerd productplatform met het doel integreren om een laag-kosten-van-eigendoms nanopatterning (CoO) oplossing te ontwikkelen om de productie van hoog-helderheids lichtgevende dioden (HB-LEDs) toe te laten. Met manifestatiemogelijkheden op zijn plaats reeds, zouden de eerste producten moeten later op het jaar verschepen.

Volgens LEIDENE Onbeperkte marktonderzoek vaste Strategieën (Mountain View, Californië), zou de markt voor hoog-helderheid LEDs van $11.2 miljard in 2010 tot $16.2 miljard in 2014 moeten groeien, gedreven door toepassingen zoals backlighting van TV, mobiele apparaten en meer en meer door verlichting. Om deze verhoogde vraag te ontmoeten, hebben de HOOFDfabrikanten nieuwe productieoplossingen nodig die de verlichtingsefficiency van hun producten kunnen verhogen terwijl het laag houden van productiekosten. Door hun gezamenlijk-ontwikkelingsovereenkomst, zullen de Groep EV en Eulitha nieuwe productietechnologieën onderzoeken die de kosten en de technologievereisten HOOFD van fabrikanten steunen.

Het Combineren van de technologie van de het volledig-gebiedsblootstelling van Eulitha met platform van de het maskergroepering van EVG het reeds lang gevestigde verstrekt goedkope, geautomatiseerde vervaardiging van photonic nanostructures over grote gebieden, en steunt de productie van energie efficiënte LEDs, zonnecellen en vloeibare kristalvertoningen. Het combineert de lage kosten, handigheids en niet-contactmogelijkheden van nabijheidslithografie met submicronresolutie--makend het ideaal gezien voor gebruik geschikt in het vormen van saffiersubstraten om de lichte extractie (en zo de efficiency) van LEIDENE apparaten te verbeteren. EVG is van plan om een PHABLE-Toegelaten systeem EVG620 als uitbreiding aan zijn reeds lang gevestigd het systeemplatform van de maskergroepering aan te bieden--gevend klanten een nog bredere keus van configuratieopties.

„Wij verheugen ons op het werken met Groep EV om introductie op de markt van PHABLE door de integratie van deze nieuwe technologie met het maskeraligner van EVG zeer te versnellen industrie-leidend platform,“ verklaarde Harun Solak, CEO van Eulitha. „Wij geloven de synergismen van onze respectieve technologieën groot potentieel hebben om resolutie en de volume-productie mogelijkheden van lithografiesteppers bij een fractie van de kosten te verstrekken--toelatend LEIDEN, optica en photonicsfabrikanten met uiterst strakke kostenbeperkingen de kans om hun technologie roadmaps tot hogere niveaus van prestaties uit te breiden.“

Genoteerde Hermann Waltl, de uitvoerende verkoop en de klantenondersteuningsdirecteur, Groep EV, de „deskundigheid van Eulitha inzake nanofabricatie maken tot hen een ideale partner om met op nieuwe het vormen oplossingen voor de LEIDENE industrie samen te werken. Wij zijn opgewekt om deze verhouding met Eulitha terecht te komen in en ons bewezen maskeraligner platform voor onze HOOFDklanten vooruit te gaan.“

Last Update: 11. January 2012 04:16

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit