Grupo e Eulitha de EV A Colaborar em Produzir Nanostructures Usando Técnicas da Litografia

Published on January 10, 2012 at 7:52 PM

O Grupo de EV (EVG), um fornecedor principal do equipamento da ligação e da litografia da bolacha para o MEMS, nanotecnologia e mercados do semicondutor, anunciaram hoje que assinou um desenvolvimento conjunto e um acorde de licença com Eulitha AG, um pioneiro e líder na produção dos nanostructures de alta qualidade usando técnicas avançadas da litografia.

EVG integrará a tecnologia ultravioleta máscara-baseada da fotolitografia do PHABLE de Eulitha ( (UV)TM) com plataforma automatizada do produto do alinhador da máscara de EVG com o objectivo de desenvolver uma solução (CoO) nanopatterning da baixo-custo--posse para permitir a produção dos diodos luminescentes do alto-brilho (HB-Diodo emissor de luz). Com capacidades do programa demonstrativo no lugar já, os primeiros produtos são esperados enviar no fim deste ano.

De acordo com Estratégias da empresa de estudos de mercado do DIODO EMISSOR DE LUZ Ilimitadas (Mountain View, Califórnia), o mercado para o Diodo emissor de luz do alto-brilho é esperado crescer em 2014 de $11,2 bilhões em 2010 a $16,2 bilhões, conduzido por aplicações tais como o backlighting da TEVÊ, dispositivos móveis e cada vez mais iluminando. Para encontrar este aumento da procura, os fabricantes do DIODO EMISSOR DE LUZ precisam as soluções novas da fabricação que podem aumentar a eficiência da iluminação de seus produtos ao manter custos de fabrico para baixo. Com seu acordo do desenvolvimento conjunto, o Grupo e Eulitha de EV explorarão as tecnologias de fabricação novas que apoiam exigências do custo e da tecnologia dos fabricantes do DIODO EMISSOR DE LUZ.

Combinar a tecnologia da exposição do pleno campo de Eulitha com a plataforma bem conhecida do alinhamento de máscara de EVG fornece a fabricação barata, automatizada de nanostructures fotónicos sobre grandes áreas, e apoia a produção de Diodo emissor de luz da energia, de células solares e de indicadores de cristal líquido eficientes. Combina baixo as capacidades do custo, da acessibilidade e do não-contacto da litografia da proximidade com a definição submicrónica--fazendo a serida idealmente para o uso em carcaças de modelação da safira a fim aumentar a extracção clara (e assim a eficiência) de dispositivos do DIODO EMISSOR DE LUZ. EVG planeia oferecer um sistema EVG620 PHABLE-permitido como uma extensão a sua plataforma bem conhecida do sistema do alinhamento de máscara--dando a clientes uma escolha mesmo mais larga de opções de configuração.

“Nós olhamos para a frente ao trabalho com Grupo de EV para acelerar extremamente a comercialização de PHABLE com a integração desta tecnologia nova com plataforma líder de mercado do alinhador da máscara de EVG,” Harun indicado Solak, CEO de Eulitha. “Nós acreditamos que as sinergias de nossas tecnologias respectivas têm o grande potencial fornecer as capacidades da definição e da volume-produção de steppers da litografia em uma fracção do custo--permitindo fabricantes do DIODO EMISSOR DE LUZ, do sistema ótico e do photonics com limitações de custo extremamente apertadas a oportunidade de estender seus mapas rodoviários da tecnologia aos níveis mais altos de desempenho.”

Hermann Notável Waltl, vendas executivas e director do apoio ao cliente, Grupo de EV, de “a experiência Eulitha na nanofabricação faz-lhes um sócio ideal para colaborar com nas soluções de modelação novas para a indústria do DIODO EMISSOR DE LUZ. Nós somos entusiasmado empreender este relacionamento com Eulitha e avançar nossa plataforma provada do alinhador da máscara para nossos clientes do DIODO EMISSOR DE LUZ.”

Last Update: 11. January 2012 04:30

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