Site Sponsors
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions

WNLO om De Mogelijkheden van de Lithografie van de Elektronenstraal Dankzij te worden Vistec

Published on January 16, 2012 at 5:36 PM

Vistec de Lithografie, B.V. is pleased om vandaag aan te kondigen dat het Nationale Laboratorium Wuhan voor Opto-elektronica (WNLO) bij de Universiteit Huazhong van Wetenschap en Technologie (HUST) in Wuhan, P.R. van China van zijn elektron-straal lithografiesysteem Vistec EBPG5000pES ondertekende.

Vistec EBPG5000pES het systeem van de elektronenstraallithografie.

WNLO, een nationaal laboratorium op het gebied van opto-elektronica, HUST, een nationale zeer belangrijke universiteit in China, en Vistec de Lithografie, een belangrijke leverancier van elektron-straal lithografiesystemen, beschouwen die gebeurtenis als belangrijke mijlpaal in hun strategisch vennootschap.

Het Vistec EBPG5000pES elektron-straal lithografiesysteem zal WNLO toelaten om zijn belangrijke positie in photonics en opto-elektronicaonderzoek en ontwikkeling verder te versterken. „EBPG5000pES vergemakkelijkt ons om alle lithografieuitdagingen te bereiken wij in ons onderzoek staan voor. Wat betreft de toepassingssteun en dienst weten wij dat wij op het Vistec team kunnen tellen aangezien onze strategische partner“, Prof. Jinsong Xia, directeur van de Optoelectronic Micro & Nano Vervaardiging en de Faciliteit van de Karakterisering (OMFC) bij WNLO verklaarde.

Vistec EBPG5000pES is een high-end lithografiehulpmiddel dat op betrouwbare en goed-bewezen systeemarchitectuur wordt gebaseerd. Met zijn flexibele elektron-optische kolom en hoge helderheidsTFE bron, die 50 en verrichting 100kV toestaan, verstrekt het systeem neer een vlekgrootte aan <2.2nm, waarbij de nano-lithografie dat structuren kleiner worden toegelaten dan 8nm uit routine worden geproduceerd. Het systeem neemt een interactief grafisch gebruikersinterface op (GUI) dat handigheid voor diverse, voor meerdere gebruikers, universitaire typemilieu's verstrekt.

„Wij zijn zeer pleased om deze significante mijlpaal in ons vennootschap met WNLO bij HUST bereikt te hebben, die kan worden verzekerd dat Vistec hen aan zeer best“ zal steunen, bovengenoemde Erwin Mueller, het Leiden de Lithografie van Directeur Vistec, is B.V. het „Systeem van de elektronenstraallithografie bij WNLO eerste operationele Vistec EBPG5000pES in de Volksrepubliek China, die grote kansen voor een duurzame bedrijfsontwikkeling voor Vistec in dat gebied.“ opent

Last Update: 16. January 2012 23:38

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit