点缺陷在象基本天线的 Graphene 操作

Published on February 2, 2012 at 1:02 AM

卡梅伦柴

从能源部的橡树岭国家实验室的 (ORNL)研究小组显示出,在 graphene 的点缺陷是有用的在调用的基本缩放比例数据通过集成与光的电子,铺平道路发展更加快速和紧凑电子设备。

在橡树岭国家实验室的电子显微镜术显示出,硅原子 (参见在白色) 可能操作象 “基本天线”在 graphene 和传输一个电子信号在这个基本缩放比例。 (赊帐: ORNL)

这个研究的发现在单层 Graphene 的纸题为的 ` 基本局限化的胞质基因改进报告’在本质纳米技术方面。 在 graphene 的点缺陷在 nanomaterial 的唯一碳原子位置包括硅原子。 根据胡安・卡洛斯 Idrobo,本文的共同执笔者,此证明概念研究解释在 graphene 的一个二原子硅电汇能够再变换光成一个电子信号然后转换这个信号成光。

研究小组通过使用变型被更正的扫描透射电镜术显示了点缺陷的此唯一工作情况在 graphene 的对照片象光学的信号或胞质基因回应。 硅原子运行象基本缩放比例天线,因而改进 graphene 的局部表面胞质基因回应和形成基本缩放比例样本 plasmonic 设备。 用于这个研究的电子显微镜是 ORNL 的共有的研究设备用户设备的要素。

根据吴 Zho,本文的共同执笔者,研究员能制造更小的 plasmonic 设备使用金属,但是他们只开始考虑 5-7 毫微米。 在此实验,研究小组能用下来范围创建 plasmonic 设备到一个基本缩放比例。 除其微观研究以外,研究小组使用理论上的最初原则计算验证点缺陷的稳定性。

来源: http://www.ornl.gov

Last Update: 3. February 2012 20:41

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