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點缺陷在像基本天線的 Graphene 操作

Published on February 2, 2012 at 1:02 AM

卡梅倫柴

從能源部的橡樹嶺國家實驗室的 (ORNL)研究小組顯示出,在 graphene 的點缺陷是有用的在調用的基本縮放比例數據通過集成與光的電子,鋪平道路發展更加快速和緊湊電子設備。

在橡樹嶺國家實驗室的電子顯微鏡術顯示出,硅原子 (參見在白色) 可能操作像 「基本天線」在 graphene 和傳輸一個電子信號在這個基本縮放比例。 (赊帳: ORNL)

這個研究的發現在單層 Graphene 的紙題為的 ` 基本局限化的胞質基因改進報告』在本質納米技術方面。 在 graphene 的點缺陷在 nanomaterial 的唯一碳原子位置包括硅原子。 根據胡安・卡洛斯 Idrobo,本文的共同執筆者,此證明概念研究解釋在 graphene 的一個二原子硅電匯能够再變換光成一個電子信號然後轉換這個信號成光。

研究小組通過使用變型被更正的掃描透射電鏡術顯示了點缺陷的此唯一工作情況在 graphene 的對照片像光學的信號或胞質基因回應。 硅原子運行像基本縮放比例天線,因而改進 graphene 的局部表面胞質基因回應和形成基本縮放比例樣本 plasmonic 設備。 用於這個研究的電子顯微鏡是 ORNL 的共有的研究設備用戶設備的要素。

根據吳 Zho,本文的共同執筆者,研究員能製造更小的 plasmonic 設備使用金屬,但是他們只開始考慮 5-7 毫微米。 在此實驗,研究小組能用下來範圍創建 plasmonic 設備到一個基本縮放比例。 除其微觀研究以外,研究小組使用理論上的最初原則計算驗證點缺陷的穩定性。

來源: http://www.ornl.gov

Last Update: 3. February 2012 20:42

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