Posted in | Nanofabrication

Система Выравнивания Маски Поколения Старта Вторых Группы EV Польностью Автоматизированная для Изготовлений HB-LED

Published on February 8, 2012 at 10:03 PM

Группа EV (EVG), ведущий поставщик оборудования вафл-выпуска облигаций и литографирования для предварительного полупроводника и упаковывать, сложные полупроводники, MEMS, кремний на изоляторе (SOI) и вытекая рынки нанотехнологии, сегодня объявили Gen II EVG620HBL--второе поколение полно автоматизировало систему выравнивания маски для изготавливания тома диодов высок-яркости светоиспускающих (HB-СИД).

Введено один год после того как старт перв-поколения EVG620HBL, Gen II поставляет платформу инструмента портняжничанную для того чтобы адресовать потребности HB-LED клиент-специфические и продолжающийся требование полного уменьшения цен--владением. Gen II EVG620HBL также оптимизирует след ноги инструмента в сказочном--поставлять 55 более высокого процентов выхода вафли для каждого квадратного метра космоса чистой комнаты сравнил к конкурсным предложениям.

Gen II EVG620HBL--второе поколение полно автоматизировало систему выравнивания маски для изготавливания тома диодов высок-яркости светоиспускающих от Группы EV.

Др. Томас Uhrmann, замеченный менеджер развития биснеса для Группы EV, «Рынок HB-LED динамический и быстро изменяющ, и нашим клиентам постоянн нужно новаторские разрешения обеспечить что их выход и капитальные вложения увеличиваются. Gen II EVG620HBL великий пример как EVG быстро отвечает к потребностям своих клиентов путем leveraging своя экспертиза в изготавливании HB-LED для того чтобы поставить эффективное решение. Уже строящ доказанную платформу которая теперь de facto индустриальный стандарт с нашим инструментом выравнивания маски перв-поколения, мы предпологаем что Gen II EVG620HBL более добавочно расширит экономичный зазор над конкурсными предложениями.» Сегодня, bonders EVG и aligners маски раскрываются 4 из верхних 5 главных изготовлений HB-LED.

Поднимая требования для снижения себестоимости и повышений выхода требуют что провайдеры оборудования переосмысливают чего они приносят к таблице оперируя понятиями общей стоимости владения. Это в частности истинно с выравниванием маски для литографирования где увеличивающ выход критическое к выполнять долгосрочный потенциал роста технологии СИД. Gen II EVG620HBL оборудован с хозяином новых характеристик направленных на требования сытных высокообъемных (HVM) клиентов изготавливания специфические:

  • Увеличенный микроскоп поддерживая автоматизированный поиск картины маски, который
    более добавочно уменьшает настроение маски и время изменения--оба из которых критическое
    к включать непрерывную продукцию прибора в окружающих средах HVM;
  • Обновленный робототехнический регулируя план при вафля отображая возможность, которая
    поддерживает требование для traceability вафли;
  • Улучшенная возможность выравнивания (линия выравнивание), которая leverages
    решетки которые маркируют одиночное СИД для ориентации вместо требовать
    метки выравнивания которые принимают вверх ценный космос на вафле;
  • Уменьшенный след ноги системы, которого оптимизирует общую стоимость владения для
    деятельность и увеличения вафля в след ноги индексирует.

Совместно, эти пользуются ключом повышения к Gen II EVG620HBL включают уменьшение 20 процентов в цен-в-обрабатываемой вафле сравненной к конкурсным предложениям.

Построено на платформе aligner маски EVG пол-доказанной, серия EVG620HBL отличает источником света высок-интенсивности (UV) ультрафиолетов и опционным блоком вентилятора фильтра для того чтобы увеличить выход и включить объём вафли индустрии самое высокое вафель до 165 6-дюймов согласно с час (до 220 вафель в час в первом режиме печати). Другая главная особенность EVG620HBL наличие специальных рецепт-контролируемых микроскопов которых спектр освещения можно поменять и оптимизировать для того чтобы обеспечить самый лучший контраст картины с различными материалами вафли и слоя, включая такие предварительные материалы субстрата как сапфир, карбид кремния (SiC), алюминиевый нитрид (AlN), металл и керамическое. Серия EVG620HBL обрабатывает 2 - к вафлям 6 дюймов.

Gen II EVG620HBL доступен для покупкы немедленно. Для больше информации о этом инструменте, пожалуйста посетите www.evgroup.com или навестиньте компания на Стратегиях в Светлом Конференции в Santa Clara, CALIF. с 7-ого-9 февраля 2012. Др. Томас Uhrmann EVG представит на «Высоких Литографировании Объём и Выпуске облигаций Вафли Металла: 2 Позволяя Технологии для Будущего СИД Высок-Яркости» на конференции в пятница 9-ое февраль на Времени Тихого Океана A.M. 8:30.

Last Update: 14. February 2012 09:50

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit