El CEA-Leti Señala los Últimos Logros en la Solución de la Litografía del CARTÓGRAFO

Published on February 14, 2012 at 1:29 AM

Por Cameron Chai

El CEA-Leti ha señalado que los adelantos significativos del directo masivo paralelo escriben la tecnología diseñada por Litografía del CARTÓGRAFO.

La ejecución importante que se ha logrado en la resolución es 22 agujeros densos del contacto del nanómetro y 22 líneas densas y los espacios del nanómetro en el positivo químicamente amplificado resisten. Por Otra Parte, esta resolución demostrada satisface las necesidades de la industria de la siguiente-generación 10 14 de la tecnología de la lógica del nanómetro nodos del nanómetro y.

Los adelantos señalados son los resultados de la 5ta Revista Operativa del programa de la IMAGINACIÓN ordenada por el CEA-Leti del 24 al 26 de enero de 2012. Además, el CEA-Leti y la Litografía del CARTÓGRAFO han anunciado la extensión de tres años del programa de la IMAGINACIÓN con la instalación futura de los primeros sistemas de la Matriz de la preproducción del CARTÓGRAFO en el CEA-Leti, así permitir que los jugadores globales evalúen tecnología maskless de la litografía en la producción real condiciona.

El programa de la IMAGINACIÓN es originalmente un programa multisocio de tres años de la investigación/de la industria dirigido por el CEA-Leti y también incluye productores importantes, STMicroelectronics y TSMC del semiconductor. Sobre 50 representantes a partir de 13 diversas compañías participantes de IMAGINACIÓN el proyecto había participado en la acción Operativa de la Revista.

En esta acción, el CEA-Leti ha presentado los últimos adelantos que incluyen una demostración de costura lograda en la plataforma de la pre-alfa de la Litografía del CARTÓGRAFO desplegada en el recinto limpio el CEA-Leti's desde mediados de 2009.

El Director General en la Litografía del CARTÓGRAFO, Bert Enero Kampherbeek declaró que la compañía envolverá hacia arriba su plataforma de la preproducción de la Matriz en 2012, con una capacidad inicial de la producción de un wafer/h, que es hasta 10 wafers/h. escalable.

Según Laurent Malier, el Director General en el CEA-Leti, los resultados del programa IMAGINE representa la consolidación el CEA-Leti's para animar esta solución potencial de la litografía.

Fuente: http://www.leti.fr

Last Update: 14. February 2012 09:51

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