Site Sponsors
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D

CEA-Leti Meldt Recentste Verwezenlijkingen over MAPPER de Oplossing van de Lithografie

Published on February 14, 2012 at 1:29 AM

Door Cameron Chai

CEA-Leti heeft gerapporteerd de opmerkelijke vorderingen van massaal parallelle die direct technologie schrijven door MAPPER Lithografie wordt ontworpen.

De significante verwezenlijking die in resolutie is bereikt is gaten van het 22 NM de dichte contact en verzetten tegen de de 22 chemisch vergrote NM dichte lijnen zich en ruimten in positief. Voorts vervult deze aangetoonde resolutie de de industriebehoeften aan de volgende-generatie 10 NM en 14 NM de knopen van de logicatechnologie.

De gemelde vorderingen zijn de resultaten van het IMAGINE 5de Operationele die Overzicht van het programma door CEA-Leti vanaf 24 wordt georganiseerd tot 26 Januari, 2012. Bovendien heeft de Lithografie van CEA-Leti en MAPPER de driejarige uitbreiding van het IMAGINE programma met de toekomstige installatie van MAPPER de eerste systemen van de voorproductieMatrijs in CEA-Leti aangekondigd, waarbij globale spelers worden toegestaan om maskless lithografietechnologie in daadwerkelijke productievoorwaarden te evalueren.

Het IMAGINE programma is oorspronkelijk een driejarig die onderzoek/de industrie multi-partner programma door CEA-Leti wordt geleid en omvat belangrijke ook halfgeleiderproducenten, STMicroelectronics en TSMC. Meer Dan 50 vertegenwoordigers van 13 verschillende deelnemende bedrijven van het IMAGINE project hadden aan de Operationele gebeurtenis van het Overzicht deelgenomen.

In deze gebeurtenis, heeft CEA-Leti de recentste vorderingen voorgesteld die een het stikken demonstratie bereikte op MAPPER het pre-alpha- opgestelde platform van de Lithografie in cleanroom van CEA-Leti sinds medio van 2009 omvatten.

De Ambtenaar van de President bij MAPPER Lithografie, Januari Kampherbeek van Bert verklaarde dat het bedrijf omhoog zijn de voorproductieplatform van de Matrijs in 2012, met een eerste productievermogen van één wafer/h zal verpakken, die scalable tot 10 wafers/h. is.

Volgens Laurent Malier, vertegenwoordigt de Ambtenaar van de President in CEA-Leti, de resultaten van IMAGINE programma de verplichting van CEA-Leti om deze potentiële lithografieoplossing aan te moedigen.

Bron: http://www.leti.fr

Last Update: 14. February 2012 09:38

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit