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Tegal Continua Discussões A Vender Carteira Nano Restante da Patente do Depósito da Camada

Published on February 16, 2012 at 12:58 AM

Por Cameron Chai

Tegal declarou que está actualmente nas discussões para vender o quarto lote de sua carteira nano da patente do depósito da camada que se refere processos do semicondutor.

A carteira restante cobre as tecnologias de processamento e as estruturas do filme fino que referem-se baixas-k tecnologias da barreira do dielétrico e do cobre. Tegal tinha vendido os lotes da sua carteira nano da patente do depósito da camada 1-3, compreendendo mais de 30 patentes, a diversos licitantes para uma quantidade total de aproximadamente $4 milhões o 30 de dezembro de 2011. Os fabricantes de equipamento De Capital mostraram o interesse nestas patentes, visto que os agregadores da propriedade (IP) intelectual e do dispositivo do IC fabricantes estão mostrando o interesse no quarto lote.

Os processos Integrados serão uma fase essencial de todo o método de processamento integrado para os baixos-k dieléctricos sofisticados que usam baixos-k filmes porosos. Além Disso, a carteira da patente de Tegal compreende soluções para camadas da adesão e camadas de barreira compostas para as estratégias de cobre da metalização, que despejaram ser mais significativas para o depósito de vapor químico, depósito nano da camada, depósito atômico da camada de camadas múltiplas tais como camadas de barreira, camadas da adesão, e camadas da semente de Mo, de Ru ou de Cu.

Os Substitutos aos métodos físicos existentes do depósito de vapor com métodos atômicos do depósito da camada e seus derivados estão sendo explorados para cumprir as exigências para a cobertura melhorada da etapa, uns prolongamentos mais altos, e um controle da difusão do Cu. Estas necessidades aumentam por sua vez procuras no controle exacto de esquemas sofisticados da metalização, especialmente nas camadas mais baixas da metalização em dispositivos sofisticados do CMOS.

Para quebrar as limitações da cobertura da etapa de métodos físicos do depósito de vapor, os reveladores são segundo o depósito nano da camada e técnicas atômicas do depósito da camada para construir a semente, camadas da adesão e de barreira com precisão atômica da camada e controle da estequiometria, da uniformidade, e da espessura. Com as patentes de Tegal, os agregadores do IP e os reveladores do IC podem reforçar sua carteira da patente para esquemas sofisticados da metalização, especialmente ideal para a transformação do depósito de vapor físico ao depósito atômico da camada e outros métodos da camada-por-camada.

Source: http://www.tegal.com/

Last Update: 18. February 2012 08:18

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