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NanoInk Autoriza Exclusivamente 5 Nuevas Tecnologías Punta-Basadas de la Litografía

Published on February 16, 2012 at 7:58 PM

NanoInk anunció hoy que firmó los contratos de licencia con la Universidad Northwestern que conceden a NanoInk el acceso comercial exclusivo a cinco nuevas tecnologías para el uso con respecto a la litografía punta-basada.

Las tecnologías autorizadas son tecnología de la Litografía de la Pluma del Polímero (también conocida como tecnología de PPL); el copolímero de bloque ayudó a nanolithography; nivelación del feedback de la fuerza de las matrices masivo paralelas de la pluma del polímero; duro-punta masivo paralela, litografía del suave-muelle; y litografía de la pluma del gel.

Con las licencias exclusivas a estas tecnologías nuevas, NanoInk más futuro ensancha su cartera de propiedades intelectual que incluya ya más de 200 patentes y las aplicaciones limaron por todo el mundo.

NanoInk se prepone leverage las tecnologías autorizadas para desplegar las capacidades de su familia existente de sistemas de la nanofabricación. Roberto Janosky, el presidente de NanoInk y el Director de Operaciones, explicados, “NanoInk está muy contentos tener acceso exclusivo a estas cinco nuevos tecnologías y planes del nanolithography para incorporarlos en nuestra línea de los instrumentos y de las herramientas usados para el micrófono y las aplicaciones nanopatterning. Creemos que estas tecnologías, cuando está combinado con las capacidades de la plataforma de NanoInk, tenga el potencial de llevar a los progresos importantes en campos numerosos, incluyendo la nanofabricación de la área extensa, el photonics, el descubrimiento de la droga, la biología celular, y la secuencia de la siguiente-generación.”

Last Update: 18. February 2012 08:21

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