Posted in | Nanolithography

Vergunning 5 van NanoInk Uitsluitend de Nieuwe uiteinde-Gebaseerde Technologieën van de Lithografie

Published on February 16, 2012 at 7:58 PM

NanoInk kondigde vandaag aan dat het vergunningsovereenkomsten met Noordwestelijke Universiteit aanging die NanoInk exclusieve commerciële toegang tot vijf nieuwe technologieën voor gebruik met betrekking tot op uiteinde-gebaseerde lithografie verlenen.

De vergunning gegeven technologieën zijn de technologie van de Lithografie van de Pen van het Polymeer (die ook als technologie PPL wordt bekend); blok copolymeer bijgestane nanolithography; de kracht koppelt het nivelleren van de massaal parallelle series van de polymeerpen terug; massaal parallel hard-uiteinde, de zacht-lentelithografie; en de lithografie van de gelpen.

Met exclusieve vergunningen aan deze nieuwe technologieën, verbreedt NanoInk verder zijn intellectuele eigendomportefeuille die meer dan 200 wereldwijd ingediende octrooien en toepassingen reeds omvat.

NanoInk bedoelt aan hefboomwerking de vergunning gegeven technologieën om de mogelijkheden van zijn bestaande familie van nanofabricatiesystemen uit te breiden. Robert Janosky, de verklaarde voorzitter van NanoInk en de belangrijkste werkende ambtenaar, „NanoInk zijn zeer pleased om exclusieve toegang tot deze vijf nieuwe nanolithographytechnologieën te hebben en zijn van plan om hen in onze lijn van instrumenten en hulpmiddelen op te nemen die voor micro en nanopatterning toepassingen worden gebruikt. Wij geloven dat deze technologieën, wanneer gecombineerd met de mogelijkheden van het platform NanoInk, het potentieel om tot significante ontwikkelingen op talrijke gebieden hebben te leiden, met inbegrip van groot gebiedsnanofabricatie, photonics, drugontdekking, celbiologie, en volgende-generatie het rangschikken.“

Last Update: 18. February 2012 08:10

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit