Posted in | Nanolithography

NanoInk 完全准许 5 新的基于技巧的石版印刷技术

Published on February 16, 2012 at 7:58 PM

NanoInk 今天宣布了它加入同意 NanoInk 对五种新技术的独有的商业进入为使用与基于技巧的石版印刷相关与西北大学的许可证协议。

被准许的技术是聚合物笔石版印刷技术 (亦称 PPL 技术); 嵌段共聚物协助解决 nanolithography; 强制反馈成水平大量并行聚合物笔列阵; 大量并行难技巧,软弹簧石版印刷; 并且胶凝体笔石版印刷。

对这些新颖的技术的专用许可证,更加进一步的 NanoInk 扩展已经包括超过的其知识产权投资组合 200 个专利,并且应用归档得全世界。

NanoInk 打算利用被准许的技术扩展极小制作系统其现有的系列的功能。 罗伯特 Janosky, NanoInk 的总统和业务执行责任者,解释, “NanoInk 是非常喜悦得以进入对这五个新的 nanolithography 技术和计划的独有的合并他们到用于微小和 nanopatterning 的应用和工具里的我们的线路仪器。 我们相信这些技术,当结合以 NanoInk 平台的功能,请有潜在导致在许多域的重大的发展,包括大区极小制作、 photonics、药物发现,细胞生物学和下一代排序”。

Last Update: 18. February 2012 08:07

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit