收容所研究宣布先进的 AFM 讨论会在 UIUC

Published on February 19, 2012 at 5:08 PM

收容所研究、技术领先者在扫描探测和基本强制显微学 (SPM/AFM) 和 Frederick 塞茨材料研究实验室 (FSMRL)伊利诺伊大学的尔般那平原 (UIUC),宣布先进的 AFM 讨论会在 2012年 3月 21-22。

这次讨论会将结合教育演讲和指导仪器演示、以及技巧、窍门和新的技术在基本强制显微学。 事宜将包括电子描述特性 (导电性 AFM、 SKPM, EFM), Piezoresponse 强制显微学 (PFM)、多频的技术、新的扫描技术的 nanomechanical 描述特性和一个指南在伊戈尔赞成软件。 UIUC 研究员也将存在对 PFM、定量 nanotube 评定,以及联合的 AFM 和喇曼分光学的当前研究。 除 UIUC 人事部之外,这次讨论会也开始对要了解更多关于这些先进的 AFM 扫描技术的其他研究员。

贾森克利夫兰,收容所研究的 CEO,注意, “200 位使用我们的仪器的 AFM 研究员和学员在 UIUC 的 FSMRL。 这是我们的一个非常好的机会能教育,培训和通过沿我们的知识对设立和上升和来的研究员作为我们支持科学家的继续的承诺一部分明天。 扣人心弦的研究从许多部门出来在 UIUC,并且我们是非常喜悦的收容所 AFMs 是他们的科学发现的一个重要部分”。

威廉 L. 威尔逊、首席中央设施 Frederick 塞茨材料研究实验室,附注的科学家和主任, “作为极小制作和 nanoscale 工程移动向这个主流,需要对大多分析工具是明显的。 曾经被认为异乎寻常的研究系统有成为的耕马工具的浏览的探测 microscopies 喜欢 AFM。 是非常重要的我们的用户基地继续是精通与行业的最新的技术和技术。 此讨论会为所有学科的研究员将提供唯一机会了解这些技术如何可能变换他们的研究”。

被添加的斯科特 MacLaren, AFM 运算的主任 MRL 的, “我们是非常喜悦主持有收容所的先进的 AFM 讨论会。 这是一个例外机会从关于先进的 AFM 技术的专家了解。 我们的目标是使此讨论会一样实用和有利尽可能为所有我们的研究员”。

小的注册费 $40 对午餐和中断的讨论会将收费两日。 参与者必须登记在 http://mrl.illinois.edu/AFM2012/。 附加信息,并且可以在 http://www.AsylumResearch.com/Events/UIUC2012/ 找到。

Last Update: 22. February 2012 01:34

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