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Cambridge NanoTech Consegna il suo 300th Strumento di ALD

Published on March 1, 2012 at 2:18 AM

Da Cameron Chai

Cambridge NanoTech ha raggiunto un'altra pietra miliare consegnando il suo 300th strumento Atomico del Deposito (ALD) del Livello all'Accademia filiale di Scienze Cinese', l'Istituto di Chimica del Carbone (ICC) situato in Shanxi, Cina.

Gli strumenti di ALD di Cambridge NanoTech sono risultato essere una soluzione strategica significativa per comando digitale esigente dei ricercatori e dei produttori per una vasta schiera dei materiali, compreso i metalli, i solfuri, i nitruri e gli ossidi. La società ha consegnato la sua strumentazione della Savanna ALD alla funzione versatile di ricerca e sviluppo di ICC.

Dott. Yong Qin, che servisce da Professor al Laboratorio di Tasto dello Stato della Conversione del Carbone, ICC, spiegato che l'istituto ha selezionato lo strumento della Savanna ALD a causa della sua capacità di produrre le pellicole accurate ed omogenee, specialmente nello sviluppare i precursori novelli. L'istituto intende utilizzare il sistema di ALD per il deposito dei nanocatalysts di supporto per le applicazioni catalitiche industriali. Il sistema della Savanna ALD sarà il cavallo di lavoro del laboratorio e che permette che l'istituto esegua il trattamento del termale con minimo a nessuna manutenzione. L'istituto lavorerà con una vasta schiera dei materiali quali Ru, la Pinta, il VOx, SnO2 e TiO2.

Oltre a questo punto di riferimento, Cambridge NanoTech aveva rilasciato la sua prima serie webinar intitolata ` Che Cosa è il Deposito Atomico del Livello e Perché Dovrebbe Preoccuparsi?' più presto questo mese. Questa serie ha sottolineato le basi di ALD e più di 275 partecipanti da 32 nazioni gli avevano assistito. I webinars imminenti della società metteranno a fuoco sui vantaggi delle soluzioni del plasma ALD e sullo sviluppo degli strati monomolecolari montati auto. I modelli di sistema ben noti della Savanna ALD della società tre sono S100, S200 e S300. I Sui altri prodotti sono strumenti di ALD plasma-migliorati Figi per ricerca e sviluppo ed i sistemi di Phoenix e della Tahiti per i bisogni di produzione in serie e di ampia area.

Sorgente: http://www.cambridgenanotech.com

Last Update: 1. March 2012 19:46

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