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剑桥 NanoTech 传送其 300th ALD 工具

Published on March 1, 2012 at 2:18 AM

卡梅伦柴

剑桥 NanoTech 通过传送其 300th 基本层证言工具到达了另一个 (ALD)重要事件到中国科学院’子公司,位于山西 (ICC) 的采煤化学学院,中国。

剑桥 NanoTech 的 ALD 工具结果是制造商和研究员过分要求的数字控制的一个重大的有战略意义的解决方法清楚的一些的材料,包括金属、硫化物、氮化物和氧化物。 这家公司传送了其大草原 ALD 设备到 ICC 的多才多艺的研究与开发设备。

Yong Qin 博士,担当教授在状态采煤转换关键字实验室, ICC,解释由于其能力制作准确和同类的电影,这所学院选择了大草原 ALD 工具,特别地在开发新颖的前体。 这所学院打算为存款行业催化作用的应用的支持的 nanocatalysts 使用 ALD 系统。 大草原 ALD 系统将是这个实验室的耕马并且允许这所学院进行热量进程与最小到没有维护。 这所学院与清楚的一些材料一起使用例如 Ru、 Pt、嗓音、 SnO2 和 TiO2

除此地标以外,剑桥 NanoTech 发行了其标题名为 ` 的第一 webinar 串联什么是基本层证言,并且为什么应该您关心?’ 本月初。 此串联强调 ALD 基本要点,并且超过从 32 个国家的 275 个参与者出席了它。 公司的即将发布的 webinars 将着重等离子 ALD 解决方法的好处和自被装配的单层的发展。 公司的三著名的大草原 ALD 系统模式是 S100、 S200 和 S300。 其其他产品是斐济为研究与开发的等离子改进的 ALD 工具,并且大区和分批生产的塔希提岛和菲尼斯系统需要。

来源: http://www.cambridgenanotech.com

Last Update: 1. March 2012 19:43

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