Der Wafer-Reinigungs-Anlage EV-Gruppe Ausgefahren an Tokyo-Fachhochschule

Published on March 3, 2012 at 1:35 AM

Durch Cameron Chai

EV-Gruppe, ein Anbieter der Lithographie und der Wafermasseverbindungshilfsmittel für die Nanotechnologie, MEMS und Halbleitermärkte, hat den Einbau seiner halbautomatisierten EinzelWafer Reinigungsanlage angekündigt, die das EVG301 an Arai-Nishiyama-Labor der Tokyo-Fachhochschule Genannt wird.

Arai-Nishiyama-Labor verwendet das EVG301 für die Forschung und Entwicklung der hoch entwickelten optischen Nachrichtenübertragung IS, besonders für entfernende Partikel von den Oberflächen des Silikon-aufisolators und der vor-geklebten III-V Mittelhalbleiterwafer, die in der optischen IS-Produktion verwendet werden.

ständig steigender Netzwerkverkehr erfordert höhere Niveaus der Integration der optischen Nachrichtenübertragung IS, die die Nutzung von Wellenabteilungs-Mehrkanalausrüstungssender/empfängern und von optischen Fräsern umfaßt, um die jedes Übertragungsraten des Kanals auf handlichen Niveaus beizubehalten. Zu diesem Zweck arbeitet Arai-Nishiyama-Labor an Halbleiter-basierten optischen Teilen Sender/Empfänger sich entwickelnden Mittels auf Silikonplattform, die die höheren Niveaus der Integration der Schaltungen erlaubt. Wafer-Reinigungsanlage des EVG301 EV-Gruppe hilft megasonic dem Labor, wenn sie dieses Projekt wirksam einsetzt.

Dr. Nobuhiko Nishiyama von Arai-Nishiyama-Labor informierte sich, dass verbesserte Waferanleihenqualität für das Produzieren von hochwertigen Lumineszenzbauteilen wesentlich ist, die wesentliches Bestandteil sind, wenn sie optische Schaltungen auf Silikon aufbauen. Die normale Leistung des Lumineszenzbauteils erhält betroffenes wegen des Vorhandenseins von Spurnmengen der kleinen Partikel, die Abstände auf der Wafermasseverbindungsschnittstelle erzeugen. Das EVG301 beseitigt völlig solche Partikel und liefert perfekte Masseverbindungsergebnisse.

Entsprechend Yuichi Otsuka, EV-Gruppen-Japans bekräftigt Vertreter-Direktor, der Einbau des EVG301 an Arai-Nishiyama-Labor für Forschung und Entwicklung von in hohem Grade integrierten optischen IS und die überlegenen Leistungshalbleiter-laser den Status des Hilfsmittels auf diesem Forschungsgebiet.

Quelle: http://www.evgroup.com

Last Update: 3. March 2012 02:27

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