Sistema de la Limpieza del Fulminante del Grupo de EV Desplegado en el Instituto de Tecnología de Tokio

Published on March 3, 2012 at 1:35 AM

Por Cameron Chai

El Grupo de EV, un proveedor de la litografía y de las herramientas de la vinculación del fulminante para la nanotecnología, MEMS y los mercados del semiconductor, ha anunciado la instalación de su sistema semiautomatizado de la limpieza del único-fulminante llamado el EVG301 en el Laboratorio de Arai-Nishiyama del Instituto de Tecnología de Tokio.

El Laboratorio de Arai-Nishiyama está utilizando el EVG301 para la investigación y desarrollo de la comunicación óptica sofisticada ICs, especialmente para las partículas que eliminan de las superficies del silicio-en-aislador y de los fulminantes de semiconductor pre-bajo fianza de pasta de III-V utilizados en la producción óptica de IC.

el tráfico de red cada vez mayor necesita niveles más altos de integración de IC de la comunicación óptica, que incluye la utilización de los transceptores de la multiplexación de la división de la onda y de las rebajadoras ópticas para mantener los tipos de la transmisión del cada canal en los niveles manejables. Con este fin, el Laboratorio de Arai-Nishiyama está trabajando en piezas ópticas semiconductor-basadas del transceptor de la pasta que se convierte en la plataforma del silicio, que permite los niveles más altos de integración de circuitos. El sistema megasonic de la limpieza del fulminante del EVG301 del Grupo de EV ayudará al laboratorio en leveraging este proyecto.

El Dr. Nobuhiko Nishiyama del Laboratorio de Arai-Nishiyama informó que la calidad mejorada del bono del fulminante es esencial para producir los componentes luminiscentes de alta calidad, que son parte esencial en la construcción de los circuitos ópticos en el silicio. El funcionamiento normal del componente Luminiscente consigue afectado debido a la presencia de cantidades de trazo de partículas minúsculas que generen separaciones en el interfaz de la vinculación del fulminante. El EVG301 elimina completo tales partículas y proporciona a resultados perfectos de la vinculación.

Según Yuichi Otsuka, el Director del Representante de Japón del Grupo de EV, la instalación del EVG301 en el Laboratorio de Arai-Nishiyama para la investigación y desarrollo de los ICs ópticos altamente integrados y de los laseres del semiconductor del rendimiento superior corrobora el estatus de la herramienta en este campo de la investigación.

Fuente: http://www.evgroup.com

Last Update: 3. March 2012 02:28

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