東京技術協会で配置される EV のグループのウエファーのクリーニングシステム

Published on March 3, 2012 at 1:35 AM

カメロンシェ著

ナノテクノロジーのための石版印刷そしてウエファーの結合のツールの EV のグループ、提供者、 MEMS および半導体の市場は、東京技術協会の新井西山町の実験室で EVG301 と呼出される半自動の単一ウエファーのクリーニングシステムのインストールを発表しました。

新井西山町の実験室は光学 IC の生産で利用されるシリコン・オン・インシュレータおよび前担保付き III-V の化合物半導体のウエファーの表面からの除去の粒子のための洗練された光通信 IC の研究開発のために EVG301 を、特に使用しています。

常に増加するネットワークトラフィックは処理しやすいレベルであらゆるチャネルの伝送速度を維持するために波部の多重型になるトランシーバおよび光学ルーターの利用を含んでいる光通信 IC の統合のハイレベルを要します。 このため、新井西山町の実験室は成長混合物の回路の統合のハイレベルを可能にするケイ素のプラットホームの半導体ベースの光学トランシーバの部品で動作しています。 EV のグループの EVG301 の megasonic ウエファーのクリーニングシステムはこのプロジェクトのてこ入れの実験室を助けます。

新井西山町の実験室からの Nobuhiko 西山町先生は改善されたウエファーの結束の品質がケイ素の光学回路の構築の必須の部分である良質の発光性のコンポーネントを作り出すために必要であること知らせました。 発光性のコンポーネントの正常なパフォーマンスはウエファーの結合インターフェイスでギャップを生成する微粒子の微量の存在が原因で影響を受けます。 EVG301 は十分にそのような粒子を除去し、完全な結合の結果を提供します。

Yuichi Otsuka に従って、 EV のグループの日本の非常に統合された光学 IC の研究開発のための新井西山町の実験室の EVG301 の代表ディレクター、インストールおよび優秀なパフォーマンス半導体のレーザーはこの研究フィールドのツールの状態を確証します。

ソース: http://www.evgroup.com

Last Update: 3. March 2012 02:27

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit