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Strumenti di Oxford Per Tenere Seminario su Trattamento del Plasma di Nanoscale a Shanghai

Published on March 6, 2012 at 7:28 PM

A Seguito di grande successo del loro Seminario ospitato con lo IOS-CAS a Pechino l'anno scorso assistita a vicino oltre 100 partecipanti, gli Strumenti di Oxford terranno un Seminario giorno il 19 marzo a Shanghai, mettente a fuoco sul Trattamento del Plasma di Nanoscale.

Questo evento giorno, essendo tenendo il giorno prima di Semicon Cina 2012, caratterizzerà i colloqui da una serie di altoparlanti di ospite invitati, specialisti dalla Cina, Taiwan ed Europa, oltre agli esperti nelle Applicazioni ed in Trattamento dalla Tecnologia del Plasma degli Strumenti di Oxford.

Questi esperti accademici ed industriali discuteranno gli argomenti compreso il Deposito Atomico del Livello (ALD), Photovoltaics (PV), le tecnologie Profonde Incissione All'acquaforte del Silicio e del Raggio Ionico durante il programma giorno completo.

Oltre agli altoparlanti degli Strumenti di Oxford, i colloqui dagli altoparlanti di ospite includono:

  • Introduzione a ALD ed alle sue applicazioni, compreso il photovoltaics; Prof. Erwin Kessels, Università di Eindhoven (TU/e), Paesi Bassi
  • Incissione All'acquaforte & trattamento di deposito unità di MEMS e nell'OPTO di applicazione; Dott. CHU Ann-Kuo, il Professor del Dipartimento della Fotonica, Università Nazionale di Sun Yat-sen, Taiwan
  • Il Piano Focale Infrarosso Allinea il rivelatore (di IRFPAs) per le applicazioni dello spazio; Dott. Zhenghua YE, SITP (Fisica dell'Istituto di Tecnologia di Shanghai)
  • Micro/montaggio Nano e la caratterizzazione del Si sistemano gli emettitori dell'elettrone; Altoparlante di Ospite: Dott. Juncong LEI, Università di Sun Yat-sen, Cina
  • ALD utilizzato nell'applicazione di MEMS; Jerry Wang, Gestore del Centro di Tecnologia di Microsistemi, ITRI, Taiwan

Jeffrey Seah, Direttore Aziendale dell'Asia, Tecnologia del Plasma degli Strumenti di Oxford, che aprirà le osservazioni di Seminario: “Stiamo anticipando di vasto pubblico a questo Seminario a Shanghai ed estremamente siamo onorati che tanti altoparlanti di ospite distinto hanno accettato nostro invito a parlare del loro lavoro nel Trattamento del Plasma. I Nostri Seminari sono un gran opportunità affinchè la comunità di Trattamento del Plasma vengano insieme, condividere le loro esperienze ed imparare più dagli esperti internazionali principali nella loro materia.„
Sulla Base del successo del Seminario 2011 a Pechino, gli Strumenti di Oxford anticipa molto un ad alto livello di interesse sia dai partecipanti di produzione che accademici, attirato da così programma interessante ed altoparlanti prestigiosi.
L'evento è libero di assistere, ma la prenotazione è essenziale via process.news@oxinst.com o lingling.wang@oxinst.com

Last Update: 6. March 2012 21:06

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