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举行关于处理在上海的 Nanoscale 等离子的研讨会的牛津仪器

Published on March 6, 2012 at 7:28 PM

在他们的研讨会之后的巨大成功主持与 IOS-CAS 在北京去年出席 100 个参与者,牛津仪器将举行在 3月的 19日天研讨会在上海,着重 Nanoscale 等离子处理。

除从牛津仪器等离子技术的进程和应用专家之外此天活动,被暂挂在 Semicon 中国的前一天 2012年,由一定数量的被邀请的客户报告人,从中国的专家,台湾和欧洲以谈话为特色。

在这个完整的天程序期间,这些学术和行业专家 (ALD)讨论事宜 (PV)包括基本层证言、 Photovoltaics、深硅铭刻和离子束技术。

除牛津仪器报告人之外,从特邀报告人的谈话包括:

  • ALD 和其应用简介,包括 photovoltaics; 埃尔温 Kessels,艾恩德霍芬 (TU/e),荷兰大学教授
  • 铭刻 & 证言进程在 OPTO 和 MEMS 应用设备; 储安Kuo, Photonics 的部门大学,台湾教授,国家孙逸仙博士
  • 红外焦平面排列 (空间应用的 IRFPAs) 探测器; Zhenghua YE, SITP (上海技术研究所博士物理)
  • Si 的微/纳诺制造和描述特性调遣电子放射器; 特邀报告人: Juncong 博士她,孙逸仙大学,中国
  • 用于 MEMS 应用的 ALD; 杰瑞 Wang,微系统技术中心的经理, ITRI,台湾

杰费 Seah,亚洲业务经理,牛津仪器等离子技术,将开张研讨会备注: “我们期望大量观众在此研讨会在许多贵宾报告人接受了我们的邀请对他们的在等离子处理的工作告诉的上海和非常荣幸。 我们的研讨会是处理社区的等离子的一个重要机遇一起来,分享他们的经验和了解更多从导致在他们的领域的国际专家”。
基于 2011年研讨会的成功在北京,牛津仪器期望一非常高级从院和生产参与者的利益,吸引由这样一个有趣程序和有名望的报告人。
这个活动是自由出席,但是预订通过 process.news@oxinst.com 或 lingling.wang@oxinst.com 是重要的

Last Update: 6. March 2012 21:05

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