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舉行關於處理在上海的 Nanoscale 等離子的研討會的牛津儀器

Published on March 6, 2012 at 7:28 PM

在他們的研討會之後的巨大成功主持與 IOS-CAS 在北京去年出席 100 個參與者,牛津儀器將舉行在 3月的 19日天研討會在上海,著重 Nanoscale 等離子處理。

除從牛津儀器等離子技術的進程和應用專家之外此天活動,被暫掛在 Semicon 中國的前一天 2012年,由一定數量的被邀請的客戶報告人,從中國的專家,臺灣和歐洲以談話為特色。

在這個完整的天程序期間,這些學術和行業專家 (ALD)討論事宜 (PV)包括基本層證言、 Photovoltaics、深硅銘刻和離子束技術。

除牛津儀器報告人之外,從特邀報告人的談話包括:

  • ALD 和其應用簡介,包括 photovoltaics; 埃爾溫 Kessels,艾恩德霍芬 (TU/e),荷蘭大學教授
  • 銘刻 & 證言進程在 OPTO 和 MEMS 應用設備; 儲安Kuo, Photonics 的部門大學,臺灣教授,國家孫逸仙博士
  • 紅外焦平面排列 (空間應用的 IRFPAs) 探測器; Zhenghua YE, SITP (上海技術研究所博士物理)
  • Si 的微/納諾製造和描述特性調遣電子放射器; 特邀報告人: Juncong 博士她,孫逸仙大學,中國
  • 用於 MEMS 應用的 ALD; 傑瑞 Wang,微系統技術中心的經理, ITRI,臺灣

傑費 Seah,亞洲業務經理,牛津儀器等離子技術,將開張研討會備注: 「我們期望大量觀眾在此研討會在許多貴賓報告人接受了我們的邀請對他們的在等離子處理的工作告訴的上海和非常榮幸。 我們的研討會是處理社區的等離子的一個重要機遇一起來,分享他們的經驗和瞭解更多從導致在他們的領域的國際專家」。
基於 2011年研討會的成功在北京,牛津儀器期望一非常高級從院和生產參與者的利益,吸引由這樣一個有趣程序和有名望的報告人。
這個活動是自由出席,但是預訂通過 process.news@oxinst.com 或 lingling.wang@oxinst.com 是重要的

Last Update: 6. March 2012 21:06

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