Site Sponsors
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions

Suss Microtec 生成指南抵抗外套并且发展基体的平台

Published on March 19, 2012 at 6:43 PM

SUSS MicroTec,设备和进程解决方法的主导的供应商半导体和相关市场的,生成了 RCD8,新的指南抵抗外套并且发展基体的平台。

新的平台提供一个高应用种类加上低投资成本以及进程容易的调用从 RCD8 手工平台到 SUSS MicroTec 生产工具。

RCD8 是唯一的工具在为从空转涂料工的转换在一些分钟内提供这个选项有给予专利的 GYRSET 结束的盖子涂层技术的为一位浪花开发员的市场上。 即此外套和发展平台可以是定做的在基本的手工空转涂料工到一个半自动化的 GYRSET 改进的涂料工和水坑 & 浪花开发员工具之间,服务为每日 R&D 工作至小规模生产。

在我们的 Delta 过去多个专用的工具串联为特定应用使用了在 MEMS,提前的包装, LED 或者 R&D 市场上。 工具的不同的类型在 RCD8 平台现在被带来,包括所有必要的涂层和开发的进程这些应用的。

一个另外的选项转动结束的盖子涂层技术的给予专利的 GYRSET 可以集成到 RCD8 空转涂层模块。 对多种光致抗蚀剂和应用, GYRSET 技术启用一更宽的处理视窗并且极大减少材料消费。 此外此技术允许甚而方形基体,并且将被涂的部分对角落用同源一直抵抗厚度。

‘每当随着时间的推移需要处理更改,此多才多艺的工具可以现场升级与多种选项完全适应我们的客户的实际需要’,说弗兰克 P. Averdung, SUSS MicroTec 的总裁兼 CEO。 ‘以可用的牛颈肉和配置,字面上所有种类基体材料和形状其大种类在 RCD8 可以是上漆和开发’。

Last Update: 19. March 2012 19:28

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit