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Suss Microtec 生成指南抵抗外套并且發展基體的平臺

Published on March 19, 2012 at 6:43 PM

SUSS MicroTec,設備和進程解決方法的主導的供應商半導體和相關市場的,生成了 RCD8,新的指南抵抗外套并且發展基體的平臺。

新的平臺提供一個高應用種類加上低投資成本以及進程容易的調用從 RCD8 手工平臺到 SUSS MicroTec 生產工具。

RCD8 是唯一的工具在為從空轉塗料工的轉換在一些分鐘內提供這個選項有給予專利的 GYRSET 結束的蓋子塗層技術的為一位浪花開發員的市場上。 即此外套和發展平臺可以是定做的在基本的手工空轉塗料工到一個半自動化的 GYRSET 改進的塗料工和水坑 & 浪花開發員工具之間,服務為每日 R&D 工作至小規模生產。

在我們的 Delta 過去多個專用的工具串聯為特定應用使用了在 MEMS,提前的包裝, LED 或者 R&D 市場上。 工具的不同的類型在 RCD8 平臺現在被帶來,包括所有必要的塗層和開發的進程這些應用的。

一個另外的選項轉動結束的蓋子塗層技術的給予專利的 GYRSET 可以集成到 RCD8 空轉塗層模塊。 对多種光致抗蝕劑和應用, GYRSET 技術啟用一更寬的處理視窗并且極大減少材料消費。 此外此技術允許甚而方形基體,并且將被塗的部分對角落用同源一直抵抗厚度。

『每當隨著時間的推移需要處理更改,此多才多藝的工具可以現場升級與多種選項完全適應我們的客戶的實際需要』,說弗蘭克 P. Averdung, SUSS MicroTec 的總裁兼 CEO。 『以可用的牛頸肉和配置,字面上所有種類基體材料和形狀其大種類在 RCD8 可以是上漆和開發』。

Last Update: 19. March 2012 19:28

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