Los Materiales Aplicados Revelan la Tecnología de la Película de PECVD para los Fabricantes de la Visualización

Published on March 21, 2012 at 5:27 AM

Por Cameron Chai

Los Materiales Aplicados han introducido una tecnología aumentada nueva plasma de la película de la deposición (PECVD) de vapor químico para fabricar las visualizaciones de alta resolución, de alto rendimiento para las televisiones de la siguiente-generación y los ordenadores de la tablilla.

La nueva película de AKT-PECVD permite que la utilización de los transistores óxido-basados metal, que generan minúsculo, los pixeles de la rápido-transferencia produzca las pantallas de alta resolución. La película que aísla avanzada aumenta la estabilidad de los transistores del óxido de metal y entrega funcionamiento mejorado de la pantalla ofreciendo un interfaz de la dieléctrico-capa para los transistores que reduzca impurezas del hidrógeno.

Sistema de AKT-PECVD de los Materiales Aplicados el' puede depositar uniformemente estas películas de óxido de silicio de la superior-calidad con alta exactitud en las hojas de cristal que tienen una talla de hasta 9 M.2 Esta capacidad es el clave para obtener costos de producción inferiores y altos rendimientos de fabricación.

Además de sus películas de la novela PECVD, los Materiales Aplicados están desarrollando actualmente soluciones sofisticadas de PVD tales como deposición de IGZO para la producción del óxido de metal. Utilizando su más nueva tecnología rotativa del arsenal del cátodo, la compañía demuestra la deposición del inferior-defecto, capas activas homogéneas con pocos materiales y una producción más alta cuando está comparada a las soluciones existentes de PVD.

Según Tom Edman, el Vicepresidente y Director General del Grupo para la Unidad de Negocio de la Visualización de AKT en los Materiales Aplicados, las inversiones hechas por los fabricantes de la visualización en capacidad del transistor del óxido de metal son cada vez mayores, y las películas avance del PECVD de la compañía rompen la barrera en desplegar esta tecnología dominante abordando las aplicaciones de la estabilidad y de la uniformidad las películas dieléctricas complejas. La compañía ha ofrecido una aproximación rápida y barata para traer esta tecnología al mercado, ampliando las funciones de su sistema de AKT-PECVD para la deposición dieléctrica de la película para los transistores del óxido de metal.

Fuente: http://www.appliedmaterials.com

Last Update: 21. March 2012 06:51

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit