Site Sponsors
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD

Прикладные Материалы Раскрывают Технологию Фильма PECVD для Изготовлений Дисплея

Published on March 21, 2012 at 5:27 AM

Камероном Chai

Прикладные Материалы ввели новой увеличенную плазмой технологию фильма низложения (PECVD) химического пара для изготовляя высок-разрешения, высокопроизводительные дисплеи для телевидений следующего поколени и компьютеры таблетки.

Новый фильм AKT-PECVD позволяет использованию транзисторов окис-основанных металлом, которые производят малюсенькое, пикселы быстр-переключения произвести экраны высок-разрешения. Предварительный изолируя фильм увеличивает стабилность транзисторов окиси металла и поставляет улучшенное представление экрана путем предлагать интерфейс слоя диэлектрика для транзисторов который уменьшает примеси водопода.

Система AKT-PECVD Прикладных Материалов' может равномерно депозировать эти фильмы окиси кремния главн-качества с высокой точностью на листовых стекл имея размер до 9 M.2 Эта возможность ключ для того чтобы получить низкие цен производства и высокие продукции обрабатывающей промышленности.

Кроме своих фильмов романа PECVD, Прикладные Материалы в настоящее время начинают изощренные разрешения PVD как низложение IGZO для продукции окиси металла. Использующ свою самую новую роторную технологию блока катода, компания демонстрирует низложение низк-дефекта, однотиповые активные слои с меньшими материалами и более высокое объём сравнивано к существуя разрешениям PVD.

Согласно Tom Edman, Соберите Недостаток - Президент и Генеральный Директор для Бизнес-Группы Дисплея AKT на Прикладные Материалы, облечения сделанные изготовлениями дисплея в возможности транзистора окиси металла everincreasing, и фильмы PECVD компании выдвинутые ломают барьер в раскрывать эту ключевую технологию путем решать вопросы стабилности и единообразия сложных диэлектрических фильмов. Компания предложила быстрый и недорогой подход для приносить эту технологию к базарной площади, путем расширять функциональности своей системы AKT-PECVD для диэлектрического низложения фильма для транзисторов окиси металла.

Источник: http://www.appliedmaterials.com

Last Update: 21. March 2012 06:51

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit