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Freier Zugang NanoLab Fügen RIE- und PECVD-Hilfsmittel von Oxford-Instrumenten hinzu

Published on March 27, 2012 at 9:11 AM

Der Teildienst des freien Zugangs für hochmoderne Nanotechnologie-bedingte Forschung, NanoLab@TU /e in den Niederlanden, fährt fort, seine Fähigkeiten, mit der neuen Einführung von zwei neuen Oxford-Instrumentplasmaanlagen zu erweitern.

NanoLab@TU /e, Bild-Höflichkeit von TU/e

„Die Hilfsmittel PlasmaPro System100 RIE und PlasmaPro System100 ICP-PECVD sind Vielzweckanlagen, die das bereits vorhandene Hilfsmittelset ergänzen, das dem Aufbereiten von III-V photonischen Einheiten eingesetzt wird, von denen viele Oxford-Instrumenthilfsmittel“ sind, sagten Prof Erwin Kessels, Plasma u. Werkstoffverarbeitungs-Gruppe, Abt. der Angewandten Physik, TU/e. „Sie verstärken unsere Fähigkeiten für unsere eigene Forschung sowie von denen für unsere Partner innerhalb der NanoLabNL-Initiative. Sie nzen auch die umfangreiche ALD-Fähigkeit unseres Reinraumes ergä, enthält die bereits das zwei FlexAL und eine Opalplasma- und thermischenALD-Anlagen von Oxford-Instrumenten.“

Prof Kessels fährt, „Mit der Fähigkeit fort, F auszuführen und Kontroll-Listenchemie, das Hilfsmittel PlasmaPro System100 RIE wird verwendet für „das Standard“ Aufbereiten von Silikon-enthaltenen Materialien (SiO2, Si3N4, Si) sowie für die Ätzung mehr „exotischer“ Materialien wie NbN.“

Die Radierung von Dünnfilmen des Niobiumnitrids wird verwendet, um nanostructured supraleitende Einzelphoton Detektoren zu fabrizieren. Für diese Anwendung musste TU/e eine ultranarrow (50 nm) Zusammenziehung in einem 5 nm-starken NbN Film, durch Elektronträger Lithographie und Radierung mit F-Basierter Chemie definieren.

Wenn die resultierende Einheit unten bis 4 K abgekühlt wird und nah an dem kritischen Strom beeinflußt, verursacht ein Einzelphoton, das in der Zusammenziehungsregion absorbiert wird (und nur dort) einen supraleitend-widerstrebenden Übergang und produziert einen Spannungsimpuls. Dieses ergibt einen Einzelphoton Detektor mit einer Ortsauflösung weniger zehn nm, die für Nahfelddarstellung mit beispielloser Empfindlichkeit verwendet werden konnten.

Markieren Sie Vosloo, erkennt Verkäufe und Kundenbetreuungs-Direktor an der Oxford-Instrument-Plasma-Technologie die Bedeutung dieses zusätzlichen Anlagenverkaufs, „Unser breites, flexibel und zuverlässige Anlage und das Prozeßangebot hat, zu einige NanotechnologieForschungsinstitute zu führen, die global als Oxford-Instrumentmitten der hervorragender Leistung festgelegt werden. Einige langfristige Verhältnisse haben sich zwischen Forschungszentren und unserer Firma entwickelt, und TU/e ist eine der Einrichtungen, in denen wir erfreut werden, um zusammenzuarbeiten. Unsere Abnehmer bauen auf unsere Erfahrung, um die höchstentwickelte und innovative Technologie und die Dienstleistung zu erbringen, um ihre wissenschaftlichen Ziele zu erzielen.“

Last Update: 28. March 2012 20:22

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