O Estudo do NIST Prova a Estabilidade Térmica de Filmes Nanômetro-Grossos para a Eletrônica Orgânica

Published on April 19, 2012 at 3:25 AM

Por Cameron Chai

Uma equipa de investigação do National Institute of Standards and Technology (NIST) ajudou uma equipa de investigação internacional a verificar a estabilidade de uma membrana ultrathin usando a espectroscopia da fino-estrutura da absorção do Raio X da próximo-borda (NEXAFS).

A membrana ultrathin desenvolvida pela equipa de investigação internacional pode ser usada como um componente-chave para uma classe nova de eletrônica orgânica flexível, sterilizable para o uso em aplicações médicas. A equipe é dirigida por cientistas da Universidade do Tóquio, com membros da Universidade de Princeton, Universidade de Hiroshima, a Agência de Ciência de Japão e de Tecnologia, o Max Planck Institute para a Pesquisa De Circuito Integrado e Nipónico Kayaku, uma empresa Tóquio-Baseada.

A equipa de investigação internacional desenvolveu um material de porta inovativo que permitisse a esterilização de alta temperatura de transistor orgânicos, assim fazendo os apropriados para aplicações médicas tais como pacemaker macios e dispositivos implantable. Este material de porta monta-se em uma única camada ultrathin de moléculas lineares firmemente embaladas que montam em um ângulo pequeno à superfície. A equipe informado que a espessura deste (SAM) monolayer auto-montado pode ser para baixo a 2 nanômetro.

As medidas Estruturais do SAM foram executadas na linha do feixe de Raio X da baixo-energia do NIST situada no Synchrotron Nacional Fonte Luminosa em New York. Amostras do filme ultrathin de previamente e depois que o tratamento térmico foi testado no beamline do NIST que utiliza a técnica de NEXAFS para medir a estabilidade térmica e a orientação molecular do filme.

A técnica de NEXAFS é capaz de detectar ligações químicas na superfície e no interior da amostra. Por exemplo, pode mostrar a disparidade entre uma única ligação do carbono e uma ligação dobro do carbono dentro de uma molécula. As medidas de NEXAFS mostraram que os filmes ultrathin do SAM podiam manter suas integridade e estabilidade mesmo em temperaturas acima de 150°C.

Source: http://www.nist.gov

Last Update: 19. April 2012 04:43

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