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SEMATECH, Inpria-Partner, zum von Tasten-Herausforderungen in der EUV-Lithographie Zu Bewältigen

Published on April 25, 2012 at 2:16 AM

Durch Cameron Chai

Globales Konsortium von Chipherstellern, SEMATECH hat berichtet, dass Inpria, ein Spezialist in den chemischen Materialien für überlegene Dünnfilmabsetzung des Leistungsoxids, einem Bauteil Photoresists SEMATECHS und des Entwicklungszentrums (RMDC) an der Universität an Albaniens College von Nanoscale-Wissenschaft und von Technik (CNSE) gestanden hat.

Als Teil des Lithographieprogramms SEMATECHS tun sich SEMATECH und Inpria auf Taste widerstehen Herausforderungen in der extremen ultravioletten (EUV) Lithographie zusammen. Anorganischen Inprias widersteht demonstrieren sehr hohen Ätzungswiderstand und haben gelöst 11 nm-Zeilen-/-abstandsmerkmale. In dieser Partnerschaft verwenden SEMATECH und Inpria diese hochauflösenden widersteht für die Qualifikation von 0,5 Darstellungsoptik NA EUV am Kern der laufenden bedeutenden Verbesserungen, um voranzubringen widerstehen Forschung für £ 11 nm Halbabstand in RMDC. Inpria verbessert auch den Photosensitivity seiner Photoresists, um Produktivitätsbedarf an den bevorstehenden Produktionsanwendungen zu erfüllen.

Die Partnerschaft zwischen SEMATECH und Inpria wird auf Inprias fortgeschrittenen kopierenden Materialien Halbleiters und Prozessen und angeblicher Marktführerschaft SEMATECHS, Halbleitererfahrung und weit reichendem Netz der Forschungssachkenntnis und -kleinteile aufgebaut. RMDC bietet Zugriff zu den zahlreichen Metrologiehilfsmitteln und zwei zu Mikroberührung Hilfsmitteln an, die an CNSE und an University of California, Berkeley eingebaut sind.

Entsprechend Andrew Grenville, kann Generaldirektor bei Inpria, die Firma diese Zusammenarbeit wirksam einsetzen, um die Entwicklung von EUV-Lithographie-Materialien zu beschleunigen. Diese Partnerschaft ist ein anderes Testament zur Verpflichtung der Firma, zum von den bedeutenden Lithographiepunkten anzusprechen, die durch die Halbleiterindustrie angetroffen werden.

Direktor SEMATECHS der Lithographie, Stefan Wurm erklärte, dass diese Zusammenarbeit Fähigkeit RMDCS verstärkt, Taste anzupacken widerstehen Herausforderungen im fortgeschrittenen Werkstoff und findet schnell geeignete Lösungen für diese geläufigen Technologieherausforderungen.

Quelle: Werkstoff

Last Update: 25. April 2012 03:30

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