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Posted in | Nanolithography

SEMATECH, Socio de Inpria Para Abordar Retos del Clave en Litografía de EUV

Published on April 25, 2012 at 2:16 AM

Por Cameron Chai

El consorcio Global de los fabricantes de viruta, SEMATECH ha señalado que ha sentido bien Inpria, especialista en los materiales químicos para la deposición de la película fina del óxido del rendimiento superior, a una pieza de SEMATECH Resiste los Materiales y el Centro de Desarrollo (RMDC) en la Universidad en la Universidad de Albany de la Ciencia y de la Ingeniería (CNSE) de Nanoscale.

Como parte del programa de la litografía de SEMATECH, SEMATECH e Inpria partner en clave resisten retos en litografía ultravioleta (EUV) extrema. Inpria inorgánico resiste demuestra resistencia muy alta del grabado de pistas y ha resuelto 11 características de la línea/del espacio del nanómetro. En esta sociedad, SEMATECH e Inpria utilizarán estos de alta resolución resiste para la aptitud de las 0,5 ópticas de la proyección de imagen del NA EUV en la base de las mejoras mayores en curso para avance resisten la investigación para el mitad-tono del £ 11 nanómetro en RMDC. Inpria también mejorará su resiste la fotosensibilidad de los materiales para satisfacer las necesidades de la productividad de aplicaciones de producción próximas.

La sociedad entre SEMATECH e Inpria será empleada los materiales del semiconductor de Inpria el liderazgo y los procesos y del mercado reputado avance de SEMATECH que modelan, experiencia del semiconductor, y red de gran envergadura de la experiencia y de la dotación física de la investigación. RMDC ofrecerá el acceso a las herramientas numerosas de la metrología y dos a las herramientas de la micro-exposición instaladas en CNSE y la Universidad de California, Berkeley.

Según Andrew Grenville, el Director General en Inpria, la compañía puede leverage esta colaboración para acelerar el revelado de los materiales de la litografía de EUV. Esta sociedad es otro testamento a la consolidación de la compañía para abordar las ediciones importantes de la litografía encontradas por la industria del semiconductor.

El Director de la Litografía, Stefan Wurm de SEMATECH declaró que esta colaboración reforzará la capacidad de RMDC de abordar clave resiste retos en materiales avanzados y encuentra rápidamente las soluciones convenientes para estos retos comunes de la tecnología.

Fuente: http://www.sematech.org

Last Update: 25. April 2012 03:31

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