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SEMATECH,应付关键字挑战的 Inpria 合作伙伴在 EUV 石版印刷方面

Published on April 25, 2012 at 2:16 AM

卡梅伦柴

芯片制造者, SEMATECH 全球财团报告 Inpria,化工材料的专家优越性能氧化物薄膜证言的,适合 SEMATECH 的成员在大学抵抗材料和开发中心 (RMDC) 在阿尔巴尼的学院 Nanoscale 科学和工程 (CNSE)。

作为 SEMATECH 的石版印刷程序一部分, SEMATECH 和 Inpria 在关键字在极其紫外石版印刷方面将成为伙伴抵抗 (EUV)挑战。 无机的 Inpria 的抵抗展示非常高铭刻阻力和解决了 11 个毫微米线路/空间功能。 在此合伙企业, SEMATECH 和 Inpria 将使用这些高分辨率为 0.5 NA EUV 想象光学的鉴定抵抗在持续的主要升级的核心提前抵抗 £ 11 毫微米半间距的研究在 RMDC。 Inpria 也将改进其抵抗材料的光敏满足对即将发布的生产应用程序的生产率需要。

在 SEMATECH 和 Inpria 之间的合伙企业在 Inpria 的提前的半导体仿造的材料和进程和 SEMATECH 的驰名的将被建立市场领导、半导体经验和研究专门技术和硬件广远的网络。 RMDC 将提供对许多计量学工具和二个微型风险工具的存取被安装在 CNSE 和加州大学,伯克利。

根据安德鲁 Grenville, Inpria 的总执行官,这家公司能利用此协作加速 EUV 石版印刷材料的发展。 此合伙企业是另一份遗嘱对论及主要石版印刷问题的公司的承诺遇到由半导体行业。

石版印刷的 SEMATECH 的斯蒂芬 Wurm 主任,阐明,此协作将加强 RMDC 的能力处理关键字抵抗在高级材料的挑战和迅速地查找这些公用技术挑战的适当的解决方法。

来源: http://www.sematech.org

Last Update: 25. April 2012 03:29

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